Microstructural and electrical investigations of Pd/Ge/Ti/Au ohmic contact to n-type GaAs

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 7, 1996, Pages 3904-3909

  Kwak, J S ^a   Kim, H N ^a   Baik, H K ^a   Lee, J L ^b   Shin, D W ^b   Park, C G ^b   Kim, H ^c   Pyun, K E ^c  

^a Yonsei University   (South Korea)

^b Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

^c Electronics and Telecommunications Research Institute (ETRI)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0009774989     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363347     Document Type: Article

References (29)

1. M. J. Howes and D. V. Morgan, Gallium Arsenide Materials, Devices, and Circuits (Wiley, Chichester, 1986).
2. N. Baslau, J. B. Gunn, and J. L. Staples, Solid State Electron. 10, 372 (1967).
3. Y. C. Shih, M. Murakami, E. L. Wilkie, and A. C. Callerari, J. Appl. Phys. 62, 582 (1989).
4. A. K. Sinha, T. E. Smith, and H. J. Levinstein, IEEE Trans. Electron Devices 22, 218 (1975).
5. C. L. Chen, L. J. Mahoney, M. C. Finn, R. C. Brooks, A. Chu, and J. G. Mavroids, Appl. Phys. Lett. 48, 535 (1986).
6. C. L. Chen, L. J. Mahoney, J. D. Woodhouse, M. C. Finn, and P. M. Nitishin, Appl. Phys. Lett. 50, 1179 (1987).
7. E. D. Marshall, B. Zhang, L. C. Wang, P. F. Jiao, W. X. Chen, T. Sawada, S S. S. Lau, K. L. Kavangh, and T. F. Kuech, J. Appl. Phys. 62, 942 (1987).
8. J. Tsuchimoto, S. Shikata, and H. Hayashi, J. Appl. Phys. 69, 6556 (1991).
9. A. Paccagnella, L. C. Wang, C. Canali, G. Castellaneta, M. Dapor, G. Donzelli, E. Zanoni, and S. S. Lau, Thin Solid Films 187, 9 (1990).
10. W. Y. Han, Y. Lu, H. S. Lee, M. W. Cole, L. M. Casas, A. DeAnni, K. A. Jones, and L. W. Yang, J. Appl. Phys. 74, 754 (1993).
11. W. C. Huang, T. F. Lei, and C. L. Lee, J. Electron. Mater. 23, 397 (1994).
12. J. S. Kwak, H. N. Kim, H. K. Baik, J.-L. Lee, H. Kim, H. M. Park, and S. K. Noh, Appl. Phys. Lett. 67, 2465 (1995).
13. J.-L. Lee, D. Kim, S. J. Maeng, H. H. Park, J. Y. Kang, and Y. T. Lee, J. Appl. Phys. 73, 3539 (1993).
14. J.-L. Lee, H. Kim, J. K. Mun, H. G. Lee, and H. M. Park, IEEE Electron Device Lett. 15, 324 (1994).
15. H. H. Berger, Solid State Electron. 15, 145 (1972).
16. T. C. Shen, G. B. Gao, and H. Morkoç, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2113 (1990).
17. L. S. Yu, L. C. Wang, E. D. Marshall, S. S. Lau, and T. F. Kuech, J. Appl. Phys. 65, 1621 (1989).
18. T. B. Massalski, L. H. Bennett, J. L. Murray, and H. Baker, Binary Alloy Phase Diagrams (ASM International, Metals Park, OH, 1991).
19. T. C. Tisone and J. Drobek, J. Vac. Sci. Technol. 9, 271 (1972).
20. Powder diffraction file JCPDS International Center for Diffraction Data, Swarthmore, PA, 1980, card No. 4-0384.
21. E. G. Colgan and J. W. Mayer, J. Mater. Res. 2, 28 (1987).
22. T. Sands, V. G. Keramidas, R. Gronsky, and J. Washburn, Thin Solid Films 136, 105 (1986).
23. T. Sands, E. D. Marshall, and L. C. Wang, J. Mater. Res. 3, 914 (1988).
24. E. D. Marshall, S. S. Lau, C. J. Palmstrom, T. Sands, C. L. Schwartz, S. A A. Schwarz, J. P. Harbison, and L. T. Florez, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 148, 163 (1989).
25. D. R. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics (CRC, Boca Raton, 1990).
26. M. W. Cole, W. Y. Han, L. M. Casas, D. W. Eckart, and K. A. Jones, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1904 (1994).
27. J. T. Lai and J. Y.-M. Lee, J. Appl. Phys. 76, 1986 (1994).
28. J. M. Ballingall, C. E. C. Wool, and L. F. Eastman, J. Vac. Sci. Technol. B 1, 675 (1983).
29. A. K. Kulkarni and C. Lai, Thin Solid Films 164, 435 (1988).