The application of the cathodic arc to plasma assisted chemical vapor deposition of carbon

Journal of Applied Physics

Volumn 79, Issue 3, 1996, Pages 1563-1568

  Yin, Y ^a   McKenzie, D R ^a   Zou, J ^a   Das, A ^a  

^a UNIVERSITY OF SYDNEY   (Australia)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0009196479     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.362649     Document Type: Article

References (26)

1. M. Lafferty, Vacuum Arcs Theory and Applications (Wiley, New York, 1980).
2. J. Robertson, Prog. Solid State Chem. 21, 199 (1991).
3. D. R. McKenzie, D. A. Muller, and B. A. Pailthorpe, Phys. Rev. Lett. 67, 773 (1991).
4. P. J. Martin, S. W. Filipczuk, R. P. Netterfield, J. S. Field, D. F. Whitnall, and D. R. McKenzie, J. Mater. Sci. Lett. 7, 410 (1988).
5. I. I. Aksenov, S. I. Vakula, V. G. Padalka, V. E. Strel'Nitskii, and V. M. Khoroshikh, Soviet Phys. Tech. Phys. 25, 1164 (1980).
6. M. Weiler, S. Sattel, T. K. Jung, H. Ehrhardt, V. S. Veerasamy, and J. Robertson, Phys. Rev. B (in press).
7. S. R. P. Silva, K. J. Clay, S. P. Speakman, G. A. J. Amaratunga, and A. Putnis, Diam. Relat. Mater. 3, 1048 (1994).
8. W. Moller, Appl. Phys. Lett. 59, 2391 (1991).
9. P. J. Fallon, V. S. Veerasamy, V. A. Davis, J. Robertson, G. Amaratunga, W. I. Miline, and J. Koskinen, Phys. Rev. B 48, 4777 (1993).
10. C. A. Davis, V. S. Veerasamy, G. A. J. Amaratunga, W. I. Milne, and D. R. McKenzie, Philos. Mag. B 69, 1121 (1994).
11. D. R. McKenzie, D. A. Muller, B. A. Pailthorpe, Z. H. Wang, E. Kravtchinskaia, D. E. Segal, P. B. Lukins, P. D. Swift, P. J. Martin, G. A. J. Amaratunga, P. H. Gaskell, and A. Saeed, Diam. Relat. Mater. 1, 51 (1991).
12. G. G. Stoney, Proc. R. Soc. London Ser. A 82, 172 (1909).
13. F. L. McCrackin, NBS Tech. Note, pp. 379 (1969).
14. R. F. Egerton, Electron Energy Loss Spectroscopy on the Electron Microscopy (Plenum, New York, 1986).
15. S. D. Berger, D. R. McKenzie, and P. J. Martin, Philos. Mag. Lett. 57, 285 (1988).
16. Y. Yin, R. E. Collins, and Q. Zhang, J. Mater. Sci. 29, 5794 (1994).
17. S. Craig and G. L. Harding, Thin Solid Films 97, 345 (1982).
18. J. Robertson, Diam. Relat. Mater. 3, 361 (1994).
19. D. R. McKenzie, R. C. McPhedran, N. Savvides, and L. C. Botton, Philos. Mag. B 48, 341 (1983).
20. P. Koidl, C. Wild, B. Dischler, J. Wagner, and M. Ramsteiner, Mater. Sci. Forum 52, 41 (1990).
21. T. Yara, M. Yuasa, M. Shimizu, H. Makita, A. Hatta, J. Suzuki, T. Ito, and A. Hiraki, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 4404 (1994).
22. S. Jou, H. J. Doerr, and R. F. Bunshah, Thin Solid Films 253, 95 (1994).
23. S. Joshi, S. A. Gangal, and S. K. Kulkarni, J. Appl. Phys. 64, 6668 (1988).
24. P. B. Lukins, A. M. Vassallo, D. R. McKenzie, and J. V. Hanna, Carbon 31, 569 (1993).
25. J. W. Zou, K. Schmidt, K. Reicvhelt, and B. Dischler, J. Appl. Phys. 68, 1558 (1990).
26. M. A. Tamor, W. C. Vassell, and K. R. Carduner, Appl. Phys. Lett. 58, 592 (1991).