Activation of blue emission from oxidized porous silicon by annealing in water vapor

Journal of Applied Physics

Volumn 83, Issue 3, 1998, Pages 1776-1778

  Koyama, Hideki ^a   Matsushita, Yuka ^a   Koshida, Nobuyoshi ^a  

^a TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0008829903     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.366899     Document Type: Article

References (30)

1. L. T. Canham, Appl. Phys. Lett. 57, 1046 (1990).
2. A. Bsiesy, J. C. Vial, F. Gaspard, R. Herino, M. Ligeon, F. Muller, R. Romestain, A. Wasiela, A. Halimaoui, and G. Bomchil, Surf. Sci. 254, 195 (1991).
3. H. Koyama and N. Koshida, J. Appl. Phys. 74, 6365 (1993).
4. H. Mizuno, H. Koyama, and N. Koshida, Appl. Phys. Lett. 69, 3779 (1996).
5. V. Lehmann and U. Goesele, Appl. Phys. Lett. 58, 856 (1991).
6. H. Koyama, N. Shima, T. Ozaki, and N. Koshida, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, L1737 (1994).
7. H. Koyama, N. Shima, and N. Koshida, Phys. Rev. B 53, R13 291 (1996).
8. Y. H. Xie, W. L. Wilson, F. M. Ross, J. A. Mucha, E. A. Fitzgerald, J. M. Macaulay, and T. D. Harris, J. Appl. Phys. 71, 2403 (1992).
9. H. Koyama, T. Ozaki, and N. Koshida, Phys. Rev. B 52, R11 561 (1995).
10. H. Koyama and N. Koshida, Phys. Rev. B 52, 2649 (1995).
11. P. D. J. Calcott, K. J. Nash, L. T. Canham, M. J. Kane, and D. Brumhead, J. Phys. C 5, L91 (1993).
12. D. I. Kovalev, I. D. Yaroshetzkii, T. Muschik, V. P. Koch, and F. Koch, Appl. Phys. Lett. 64, 214 (1994).
13. H. Koyama and N. Koshida, Solid State Commun. 103, 37 (1997).
14. A. Lone, A. J. Simons, P. D. J. Calcott, and L. T. Canham, J. Appl. Phys. 77, 3557 (1995).
15. L. Tsybeskov, Ju. V. Vandyshev, and P. M. Fauchet, Phys. Rev. B 49, 7821 (1994).
16. A. J. Kontkiewicz, A. M. Kontkiewicz, J. Siejka, S. Sen, G. Nowak, A. M. Hoff, P. Sakthivel, K. Ahmed, P. Mukherjee, S. Witanachchi, and J. Lagowski, Appl. Phys. Lett. 65, 1436 (1994).
17. H. Tamura, M. Rueckschloss, T. Wirschem, and S. Veprek, Appl. Phys. Lett. 65, 1537 (1994).
18. L. T. Canham, A. Loni, P. D. J. Calcott, A. J. Simons, C. Reeves, M. R. Houlton, J. P. Newey, K. J. Nash, and T. I. Cox, Thin Solid Films 276, 112 (1996).
19. N. Sano, M. Sekiya, M. Hara, A. Kohno, and T. Sameshima, Appl. Phys. Lett. 66, 2107 (1995).
20. A. Borghesi, A. Sassella, B. Pivac, and L. Pavesi, Solid State Commun. 87, 1 (1993).
21. H. D. Fuchs, M. Stutzmann, M. S. Brandt, M. Rosenbauer, J. Weber, A. Breitschwerdt, P. Deak, and M. Cardona, Phys. Rev. B 48, 8172 (1993).
22. B. R. Mehta, M. K. Sahay, L. K. Malhotra, D. K. Avasthi, and R. K. Soni, Thin Solid Films 289, 95 (1996).
23. R. K. Her, in The Chemistry of Silica (Wiley, New York, 1979), Chap. 6.
24. H.-P. Boehm and H. Knoezinger, in Catalysis, edited by J. R. Anderson and M. Boudart (Springer, Berlin, 1983), Vol. 4.
25. E. F. Vansant, P. van Der Voort, and K. C. Vrancken, in Characterization and Chemical Modification of the Silica Surface (Eisevier, Amsterdam, 1995), Chap. 3.
26. F. Boccuzzi, S. Coluccia, G. Ghiotti, C. Morterra, and A. Zecchina, J. Phys. Chem. 82, 1298 (1978).
27. X. Y. Hou, G. Shi, W. Wang, F. L. Zhang, P. H. Hao, D. M. Huang, and X. Wang, Appl. Phys. Lett. 62, 1097 (1993).
28. X. Wang, G. Shi, F. L. Zhang, H. J. Chen, W. Wang, P. H. Hao, and X. Y. Hou, Appl. Phys. Lett. 63, 2363 (1993).
29. R. E. Hummel, M. H. Ludwig, J. Hack, and S.-S. Chang, Solid State Commun. 96, 683 (1995).
30. Q. Chen, X.-J. Li, G. E. Zhou, J. Zhu, S. Zhang, Y. B. Jia, and Y. Zhang, Appl. Phys. Lett. 81, 7970 (1997).