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Volumn 63, Issue 26, 1993, Pages 3580-3582

Strain relief mechanism for damage growth during high-dose, O+ implantation of Si

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EID: 0006713087     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.110103     Document Type: Article
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References (24)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.