Surface modification of InP by diffraction-patterning utilizing laser dry etching

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 15, Issue 6, 1997, Pages 2046-2051

  Prasad, Manoj ^a   Ruda, Harry E ^a   Dubowski, Jan J ^b  

^a UNIVERSITY OF TORONTO   (Canada)

^b NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0005433520     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.589221     Document Type: Article

References (24)

1. S. E. Andrews, H. Arnot, P. K. Rees, T. M. Kerr, and S. P. Beaumont, J. Appl. Phys. 67, 3472 (1990).
2. D. V. Podelsnik, H. H. Gilger, R. M. Osgood, and A. Sanchez, Appl. Phys. Lett. 43, 1083 (1983).
3. G. P. Li and T. Makino, J. Appl. Phys. 77, 4810 (1995).
4. L. J. Mawst, C. Tu, R. Martin, and M. Mazed, J. Appl. Phys. 75, 7220 (1994).
5. R. M. Lum, A. M. Glass, F. W. Ostermayer, Jr., P. A. Kohl, A. A. Ballman, and R. A. Logan, J. Appl. Phys. 57, 39 (1985).
6. R. Matz, J. Meiler, and D. Haarer, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 158, 307 (1990).
7. R. Heydel and R. Matz, Appl. Phys. Lett. 69, 38 (1993).
8. Manoj Prasad, J. J. Dubowski, and H. E. Ruda, Proc. SPIE 2403, 414 (1995).
9. L. Ding and Q. Mingxin, J. Electron. Mater. 27, 29 (1987).
10. V. M. Donnelly, D. L. Flamm, C. W. Tu, and D. E. Ibbotson, J. Electrochem. Soc. 129, 2533 (1982).
11. N. Tsukada, S. Sugata, H. Saitoh, and Y Mita, Appl. Phys. Lett. 43, 189 (1983).
12. D. J. Ehrlich, S. R. J. Brueck, and J. Y. Tsao, Appl. Phys. Lett. 41, 630 (1982).
13. J. J. Dubowski, A. Compaan, and M. Prasad, Appl. Surf. Sci. 86, 548 (1995).
14. V. A. Sychugov and T. V. Tulaikova, Sov. J. Quantum Electron. 14, 301 (1984).
15. M. Ezaki, H. Kumugai, K. Toyoda, and M. Obara, Proc. SPIE 2125, 344 (1994).
16. P. M. Fauchet and A. E. Siegman, Appl. Phys. Lett. 40, 824 (1982).
17. J. E. Sipe, J. F. Young, J. S. Preston, and H. M. van Driel, Phys. Rev. B 27, 1141 (1983).
18. J. F. Young, J. S. Preston, H. M. van Driel, and J. E. Sipe, Phys. Rev. B 27, 1155 (1983).
19. J. J. Dubowski, Mater. Sci. Forum 173-174, 73 (1995).
20. V. M. Donnelly and T. R. Hayes, Appl. Phys. Lett. 57, 701 (1990).
21. H. Kumagai, M. Ezaki, K. Toyoda, and M. Obara, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 31, 4433 (1992).
22. M. Ezaki, H. Kumagai, K. Toyoda, and M. Obara, Proc. SPIE 2125, 344 (1994).
23. M. Asada, M. Miyamoto, and Y. Suematsu, IEEE J. Quantum Electron. 22, 1915 (1986).
24. S. Ogata, M. Yoneda, T. Maeda, and K. Imanaka, Proc. SPIE 1544, 92 (1991).