p-type doping of CdTe with a nitrogen plasma source

Journal of Applied Physics

Volumn 79, Issue 5, 1996, Pages 2343-2346

  Oehling, S ^a   Lugauer, H J ^a   Schmitt, M ^a   Heinke, H ^a   Zehnder, U ^a   Waag, A ^a   Becker, C R ^a   Landwehr, G ^a  

^a UNIVERSITY OF WÜRZBURG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0005381989     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.361160     Document Type: Article

References (21)

1. M. Zandian, J. M. Arias, R. Zucca, R. V. Gil, and S. H. Shin, Appl. Phys. Lett. 59, 1022 (1991).
2. P. Becla, N. Grudzien, and J. Piotrowski, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 1777 (1979).
3. A. Waag, H. Heinke, S. Scholl, C. R. Becker, and G. Landwehr, J. Cryst. Growth 131, 607 (1993).
4. F. Fischer, A. Waag, G. Bilger, Th. Litz, S. Scholl, M. Schmitt, and G. Landwehr, J. Cryst. Growth 141, 93 (1994).
5. J. Arias, S. H. Shin, D. E. Cooper, M. Zandian, J. G. Pasko, E. R. Gertner, and J. Singh, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 1025 (1990).
6. R. L. Harper, Jr., S. Hwang, N. C. Giles, J. F. Schetzina, D. L. Dreifus, and T. H. Myers, Appl. Phys. Lett. 54, 170 (1989).
7. J. F. Schetzina, R. L. Harper, Jr., J. Han, S. Hwang, N. C. Giles, Y. Lansari, and J. W. Cook, Jr., Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 102, 97 (1988).
8. M. A. Haase, J. Qiu, J. M. DePuydt, and H. Cheng, Appl. Phys. Lett. 59, 1272 (1991).
9. D. Hommel, E. Kurtz, T. Behr, A. Jakobs, B. Jobst, S. Scholl, K. Schüll, V. Beyersdorfer, G. Landwehr, and H. Cerva, J. Cryst. Growth 138, 1076 (1994).
10. S. Ito, M. Ikeda, and K. Akimoto, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 1326 (1992).
11. E. Kurtz (private communication, 1994).
12. K. A. Dhese, D. E. Ashenford, J. E. Nicholls, P. Devine, B. Lunn, C. G. Scott, and J. Jarosznski, J. Cryst. Growth 138, 443 (1994).
13. K. A. Dhese, P. Devien, D. E. Ashenford, J.E. Nicholls, D. Sands, and B. Lunn, Appl. Phys. Lett. 76, 5423 (1994).
14. R. N. Bicknell, A. Waag, Y. S. Wu, T. H. Kuhn, and W. Ossau, J. Cryst. Growth 101, 33 (1990).
15. ASTeX Applied Science and Technology, Inc. Compact ECR Plasma Source, Operation Manual.
16. J. C. Mayers, Biorad semiconductor notes, 1985.
17. M. Schmitt, Diploma thesis, Würzburg, 1994.
18. K. A. Prior, B. Murdin, C. R. Pidgeon, S. Y. Wang, J. Hauksson, J. T. Mullins, G. Horsburgh, and B. C. Cavenett, J. Cryst. Growth 138, 94 (1994).
19. T. A. Kuhn, W. Ossau, A. Waag, R. N. Bicknell-Tassius, and G. Landwehr, J. Cryst. Growth 117, 660 (1992).
20. E. Molva, K. Mascarenhas, and W. J. Choyke, J. Lumin. 35, 955 (1983).
21. B. Monemar, E. Molva, and Le Si Dang, Phys. Rev. B 33, 1134 (1986).