-
3
-
-
35949008124
-
-
R. F. G. Meulenbroeks, A. J. van beek, A. J. G. van Helvoort, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Phys. Rev. E 49, 4397 (1994).
-
(1994)
Phys. Rev. E
, vol.49
, pp. 4397
-
-
Meulenbroeks, R.F.G.1
Van Beek, A.J.2
Van Helvoort, A.J.G.3
Van De Sanden, M.C.M.4
Schram, D.C.5
-
4
-
-
0040864028
-
-
M. J. de Graaf, R. P. Dahiya, F. J. de Hoog, M. J. F. van de Sande, and D. C. Schram, J. Phys. (Paris), Colloq. 51, C5 (1990).
-
(1990)
J. Phys. (Paris), Colloq.
, vol.51
-
-
De Graaf, M.J.1
Dahiya, R.P.2
De Hoog, F.J.3
Van De Sande, M.J.F.4
Schram, D.C.5
-
5
-
-
3743088688
-
-
Materials Research Society, Pittsburgh
-
Edited by M. J. Thompson, Y. Hamakawa, and P. G. LeComber, Amorphous Silicon Technology, Materials Research Society Symposium Proceedings, Vol. 258 (Materials Research Society, Pittsburgh, 1992).
-
(1992)
Amorphous Silicon Technology, Materials Research Society Symposium Proceedings
, vol.258
-
-
Thompson, M.J.1
Hamakawa, Y.2
LeComber, P.G.3
-
6
-
-
0004702791
-
-
J. J. Beulens, A. T. M. Wilbers, M. Haverlag, G. S. Oehrlein, G. M. W. Kroesen, and D. C. Schram, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 2387 (1992).
-
(1992)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.10
, pp. 2387
-
-
Beulens, J.J.1
Wilbers, A.T.M.2
Haverlag, M.3
Oehrlein, G.S.4
Kroesen, G.M.W.5
Schram, D.C.6
-
7
-
-
0032138645
-
-
K. T. A. L. Burin, W. J. Goedheer, J. A. M. van der Mullen, G. M. Janssen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 395 (1998).
-
(1998)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.7
, pp. 395
-
-
Burin, K.T.A.L.1
Goedheer, W.J.2
Van Der Mullen, J.A.M.3
Janssen, G.M.4
Schram, D.C.5
-
8
-
-
0001648535
-
-
M. J. de Graaf, R. Severens, R. P. Dahiya, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Phys. Rev. E 48, 2098 (1993).
-
(1993)
Phys. Rev. E
, vol.48
, pp. 2098
-
-
De Graaf, M.J.1
Severens, R.2
Dahiya, R.P.3
Van De Sanden, M.C.M.4
Schram, D.C.5
-
9
-
-
3743114311
-
-
R. F. G. Meulenbroeks, D. C. Schram, L. J. M. Jaegers, and M. C. M. van de Sanden, Phys. Rev. Lett. 69, 1379 (1992).
-
(1992)
Phys. Rev. Lett.
, vol.69
, pp. 1379
-
-
Meulenbroeks, R.F.G.1
Schram, D.C.2
Jaegers, L.J.M.3
Van De Sanden, M.C.M.4
-
10
-
-
0000464487
-
The isentropic exponent in plasmas
-
K. T. A. L. Burm, W. J. Goedheer, and D. C. Schram, The isentropic exponent in plasmas, Phys.Plasmas 6, 2622 (1999).
-
(1999)
Phys.Plasmas
, vol.6
, pp. 2622
-
-
Burm, K.T.A.L.1
Goedheer, W.J.2
Schram, D.C.3
-
13
-
-
0004042499
-
-
International Textbook Company, Scranton, Pennsylvania
-
J. A. Owczarek, Fundamentals of Gas Dynamics (International Textbook Company, Scranton, Pennsylvania, 1964).
-
(1964)
Fundamentals of Gas Dynamics
-
-
Owczarek, J.A.1
-
16
-
-
0004275863
-
-
B. G. Teubner Verlagsgesellschaft, Stuttgart
-
E. Becker, Gasdynamik (B. G. Teubner Verlagsgesellschaft, Stuttgart, 1965).
-
(1965)
Gasdynamik
-
-
Becker, E.1
-
19
-
-
0033076522
-
-
G. M. Janssen, J. van Dijk, D. A. Benoy, M. A. Tas, K. T. A L. Burm, J. A. M. van der Mullen, W. J. Goedheer, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 1 (1999); J. J. Beulens, D. Milojevic, D. C. Schram, and P. M. Vallinga, Phys. Fluids B 3, 2548 (1991).
-
(1999)
Plasma Sources Sci. Technol.
, vol.8
, pp. 1
-
-
Janssen, G.M.1
Van Dijk, J.2
Benoy, D.A.3
Tas, M.A.4
Burm, K.T.A.L.5
Van Der Mullen, J.A.M.6
Goedheer, W.J.7
Schram, D.C.8
-
20
-
-
0000628726
-
-
G. M. Janssen, J. van Dijk, D. A. Benoy, M. A. Tas, K. T. A L. Burm, J. A. M. van der Mullen, W. J. Goedheer, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 8, 1 (1999); J. J. Beulens, D. Milojevic, D. C. Schram, and P. M. Vallinga, Phys. Fluids B 3, 2548 (1991).
-
(1991)
Phys. Fluids B
, vol.3
, pp. 2548
-
-
Beulens, J.J.1
Milojevic, D.2
Schram, D.C.3
Vallinga, P.M.4
|