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Volumn 75, Issue 2-3, 2000, Pages 174-176

Structural study of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon carbide films

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Annealing; Chemical vapour; Vapour deposited

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EID: 0003984216     PISSN: 09215107     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0921-5107(00)00356-1     Document Type: Article
Times cited : (7)

References (11)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.