Investigation of low temperature SiO2 plasma enhanced chemical vapor deposition

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 2, 1996, Pages 738-743

  Deshmukh, Shashank C ^a   Aydil, Eray S ^a  

^a University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0003639602     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.588707     Document Type: Article

References (24)

1. S. P. Mukherjee and P. E. Evans, Thin Solid Films 14, 105 (1972).
2. N. Selamoglu, J. A. Mucha, D. E. Ibbotson, and D. L. Flamm, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1345 (1989).
3. S. K. Ray, C. K. Maiti, S. K. Lahiri, and N. B. Chakrabarti, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1139 (1992).
4. G. Tochitani, M. Shimozuma, and H. Tagashira, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 400 (1993).
5. W. Kulisch, T. Lippmann, and R. Kassing, Thin Solid Films 174, 57 (1989).
6. C. P. Chang. C. S. Pai, and J. J. Hsieh, J. Appl. Phys. 67, 2119 (1990).
7. C. S. Pai and C. P. Chang, J. Appl. Phys. 68, 793 (1990).
8. C. S. Pai, J. F. Miner, and P. D. Foo, J. Electrochem. Soc. 139, 850 (1992).
9. C. S. Pai, J. F. Miner, and P. D. Foo, J. Appl. Phys. 73, 3531 (1993).
10. B. L. Chin and E. P. van de Ven, Solid State Technol. 31, 119 (1988).
11. G. Grivna, C. Leathersich, H. Shin, and W. G. Cowden, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 55 (1993).
12. E. P. Valcheva and K. G. Germanova, Superlattices Microstruct. 10, 319 (1991).
13. E. P. Valcheva and K. G. Germanova, Mater. Lett. 7, 465 (1989).
14. S. C. Deshmukh and E. S. Aydil, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 2355 (1995).
15. E. S. Aydil, Z. Zhou, K. P. Giapis, Y. J. Chabal, J. A. Gregus, and R. A. Gottscho, Appl. Phys. Lett. 62, 3156 (1993).
16. E. S. Aydil, R. A. Gottscho, and Y. J. Chabal, Pure Appl. Chem. 66, 1381 (1994).
17. Z. Zhou, E. S. Aydil, R. A. Gottscho, Y. J. Chabal, and R. Reif, J. Electrochem. Soc. 140, 3316 (1993).
18. C. T. Kirk, Phys. Rev. B 38, 1255 (1988).
19. A. L. Smith, Spectrochim. Acta 16, 87 (1960).
20. J. Duchesne, J. Chem. Phys. 16, 1009 (1948).
21. J. E. Crowell, L. L. Tedder, H.-C. Cho, F. M. Cascarano, and M. A. Logan, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 54, 1097 (1990).
22. L. L. Tedder, J. E. Crowell, and M. A. Logan, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 1002 (1991).
23. L. L. Tedder, G. Lu, and J. E. Crowell, J. Appl. Phys. 69, 7037 (1991).
24. B. Fowler and E. O'Brien, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 441 (1994).