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Volumn 55, Issue 20, 1997, Pages 13829-13834

Why Si(100) steps are rougher after etching

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EID: 0003424434     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.55.13829     Document Type: Article
Times cited : (7)

References (15)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.