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Solid State Technology
Volumn 42, Issue 3, 1999, Pages 49-54
Curbing plasma-induced gate oxide damage
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EID: 0002299845     PISSN: 0038111X     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.