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Volumn 49, Issue 4, 1998, Pages 257-263

Preferred orientations of evaporated Ni films on Mo and SiO2 substrates

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EID: 0002028373     PISSN: 0042207X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/s0042-207x(98)00094-3     Document Type: Article
Times cited : (28)

References (12)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.