Surface kinetics and plasma equipment model for Si etching by fluorocarbon plasmas

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 3, 2000, Pages 1060-1069

  Zhang, Da ^a   Kushner, Mark J ^a  

^a UNIVERSITY OF ILLINOIS AT URBANA CHAMPAIGN   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001720164     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.371980     Document Type: Article

References (33)

1. J. T. C. Lee, N. Layadi, K. V. Guinn, H. L. Maynard, F. P. Klemens, D. E. Ibbotson, I. Tepermeister, P. O. Egan, and R. A. Richardson, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 2510 (1996).
2. B. E. E. Kastenmeier, P. J. Matsuo, G. S. Oehrlein, and J. G. Langan, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2047 (1998).
3. K. Nishikawa, T. Oomori, and K. Ono, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 127 (1999).
4. M. Schaepkens, R. C. M. Bosch, T. E. F. M. Standaert, and G. S. Oehrlein, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 2099 (1998).
5. T. E. F. M. Standaert, M. Schaepkens, N. R. Rueger, P. G. M. Sebel, G. S. Oehrlein, and J. M. Cook, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 239 (1998).
6. N. R. Rueger, J. J. Beulens, M. Schaepkens, M. F. Doemling, J. M. Mirza, T. E. F. M. Standaert, and G. S. Oehlein, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1881 (1997).
7. W. Z. Collison, T. Q. Ni, and M. S. Barnes, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 100 (1998).
8. N. Mantzaris, A. Boudouvis, and E. Gogolides, J. Appl. Phys. 77, 6169 (1995).
9. E. Meeks, R. S. Larson, S. R. Vosen, and J. W. Shon, J. Electrochem. Soc. 144, 357 (1997).
10. B. A. Helmer and D. B. Graves, J. Vac. Sci. Technol. A 16, 3502 (1998).
11. D. E. Hanson, A. F. Voter, and J. D. Kress, J. Appl. Phys. 82, 3552 (1997).
12. M. J. Grapperhaus and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 81, 569 (1997).
13. S. Rauf and M. J. Kushner, J. Appl. Phys. 83, 5087 (1998).
14. A. J. Bariya, C. W. Frank, and J. P. McVittie, J. Electrochem. Soc. 137, 2575 (1990).
15. S. Samukawa and S. Furuoya, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 32, L1289 (1993).
16. C. F. Abrams and D. B. Graves, J. Appl. Phys. 86, 2263 (1999).
17. N. E. Capps, N. M. Mackie, and E. R. Fisher, J. Appl. Phys. 84, 4736 (1998).
18. N. M. Mackie, V. A. Venturo, and E. R. Fisher, J. Phys. Chem. B 101, 9425 (1997).
19. K. Tachibana, Phys. Rev. A 34, 1007 (1986).
20. D. Rapp and P. Englander-Golden, J. Chem. Phys. 43, 1464 (1965).
21. R. H. McFarland and J. D. Kinney, Phys. Rev. 137, A1058 (1965).
22. R. A. Bonham, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 33, 4157 (1994).
23. M. Hayashi, in Gaseous Dielectrics V, edited by L. G. Christophorou and D. W. Bouldin (Pergamon, New York, 1987).
24. M. Hayashi and T. Nimura, J. Appl. Phys. 54, 4879 (1983).
25. E. Fisher, M. E. Weber, and P. B. Armentrout, J. Chem. Phys. 76, 4932 (1982).
26. G. K. Jarvis, C. A. Mayhew, and R. P. Tuckett, J. Phys. Chem. 100, 17166 (1996).
27. P. K. Leichner and R. J. Ericson, Phys. Rev. A 9, 251 (1974).
28. J. E. Velazco, J. H. Koltz, and D. W. Sester, J. Chem. Phys. 65, 3468 (1976).
29. R. E. Olson, J. R. Peterson, and J. Moseley, J. Chem. Phys. 53, 3391 (1971).
30. E. L. Duman, N. P. Tishchenko, and I. P. Shmatov, Dokl. Phys. Chem. 295, 5 (1987).
31. I. C. Plumb, K. R. Ryan, Plasma Chem. Plasma Process. 6, 205 (1986).
32. D. R. F. Burgess, Jr., M. R. Zachariah, W. Tsang, and P. R. Westmoreland, Prog. Energy Combust. Sci. 21, 453 (1996).
33. V. Vahedi, D. J. Cooperberg, J. M. Cook, L. Marquez, E. Hudson, and J. Winniczek, 45th International Symposium of the American Vacuum Society, Baltimore, MD, November 1998, Paper PS2-TuM9.