Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films Using a Viscous Nickel Solution

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 148, Issue 9, 2001, Pages

  Ahn, Jin Hyung ^a   Ahn, Byung Tae ^a  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001678027     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1386388     Document Type: Article

References (21)

1. G. Harbeke, L. Krausbauer, E. F. Steigmeie, and A. E. Windmer, Appl. Phys. Lett., 42, 249 (1983).
2. L. Hultman, A. Robertsson, H. T. G. Hentzell, I. Engstrom, and P. A. Psaras. J. Appl. Phys., 62, 3647 (1987).
3. S. W. Russel, J. Li, and J. W. Mayer, J. Appl. Phys., 70, 5153 (1991).
4. H. T. G. Hentzell, A. Robertsson, L. Hultman, G. Shaofang, S. E. Hornstrom, and P. A. Psaras, Appl. Phys. Lett., 50, 933 (1987).
5. Y. Kawazu, H. Kudo, S. Onari, and T Arai, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 29, 2698 (1990).
6. G. Liu and S. Fonash, Appl. Phys. Lett., 62, 2554 (1993).
7. C. Hayzelden and J. L. Batstone, J. Appl. Phys., 73, 8279 (1993).
8. S. W. Lee and S. K. Joo, IEEE Electrom Device Lett., 17, 160 (1996).
9. D. K. Sohn, J. N. Lee, S. W. Kang, and B. T. Ahn, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1, 35, 1005 (1996).
10. S. Y. Yoon, K. H. Kim, C. O. Kim, J. Y. Oh, and J. Jang, J. Appl. Phys., 82, 5865 (1997).
11. A. K. Kalkan and S. J. Fonash, J. Electrochem. Soc., 144, L297 (1997).
12. D. K. Sohn, S. C. Park, S. W. Kang, and B. T. Ahn, J. Electrochem. Soc., 144, 3592 (1997).
13. G. Y. Chung, S. C. Park, K. Cho, and B. T. Ahn, J. Appl. Phys. 78, 5493 (1995).
14. J. N. Lee, Y. W. Choi, B. J. Lee, and B. T. Ahn, J. Appl. Phys., 82, 2918 (1997).
15. Z. Jin, G. A. Bhat, M. Yeung, H. S. Kowk, and M. Wong, J. Appl. Phys., 84, 194 (1998).
16. A. Nakamura, F. Emoto, E. Fujii, A. Yamamoto, Y. Uemoto, K. Senda, and G. Kano, J. Appl. Phys., 66, 4248 (1989).
17. L. Haji, P. Joubert, J. Stoemenos, and N. A. Economou, J. Appl. Phys. 75, 3944 (1994).
18. J. H. Kim, J. Y. Lee, and K. S. Nam, J. Appl. Phys., 77, 95 (1995).
19. R. Drosd and J. Washburn, J. Appl. Phys., 53, 397 (1982).
20. R. C. Cammarata, C. V. Thompson, C. Hayzelden, and K. N. Tu, J. Mater. Res., 10, 2133 (1990).
21. C. Hayzelden, J. L. Batstone, and R. C. Cammarata, Appl. Phys. Lett., 60, 225 (1992).