Neutralized (NH4)2S solution passivation of III-V phosphide surfaces

Applied Physics Letters

Volumn 73, Issue 20, 1998, Pages 2977-2979

  Yuan, Z L ^a   Ding, X M ^a   Lai, B ^a   Hou, X Y ^a   Lu, E D ^b   Xu, P S ^b   Zhang, X Y ^b  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

^b UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY OF CHINA   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001634133     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.122649     Document Type: Article

References (23)

1. C. J. Sandroff, R. N. Nottenburg, J. C. Bischoff, and R. Bhat, Appl. Phys. Lett. 51, 33 (1987).
2. H. Sugahara, M. Oshima, H. Oigawa, H. Shigekawa, and Y. Nannichi, J. Appl. Phys. 69, 4349 (1991).
3. N. Yokoi, H. Andoh, and M. Takai, Appl. Phys. Lett. 64, 2578 (1994).
4. Z. L. Yuan, X. M. Ding, H. T. Hu, Z. S. Li, J. S. Yang, X. Y. Miao, X. Y. Chen, X. A. Cao, X. Y. Hou, E. D. Lu, S. H. Xu, P. S. Xu, and X. Y. Zhang, Appl. Phys. Lett. 71, 3081 (1997).
5. Z. H. Lu, M. J. Graham, X. H. Feng, and B. X. Yang, Appl. Phys. Lett. 60, 2773 (1992).
6. F. Maeda, Y. Watanabe, and M. Oshima, Appl. Phys. Lett. 62, 297 (1993).
7. D. Gallet and G. Hollinger, Appl. Phys. Lett. 62, 982 (1993).
8. Y. Tao, A. Yelon, E. Sacher, Z. H. Lu, and M. J. Graham, Appl. Phys. Lett. 60, 2669 (1992).
9. T. Chasse, H. Peisert, P. Streubel, and R. Szargan, Surf. Sci. 331-333, 434 (1994).
10. I. K. Han, E. K. Kim, J. I. Lee, S. H. Kim, K. N. Kang, Y. Kim, H. Lim, and H. L. Park, J. Appl. Phys. 81, 6986 (1997).
11. M. W. C. Dharma-Wardana, Z. Tian, Z. H. Lu, and L. J. Lewis, Phys. Rev. B 56, 10526 (1997).
12. Z. Tian, M. W. C. Dharma-Wardana, Z. H. Lu, R. Cao, and L. J. Lewis, Phys. Rev. B 55, 5376 (1997).
13. J.-M. Jin, M. W. C. Dharma-Wardana, D. J. Lockwood, G. C. Aers, Z. H. Lu, and L. J. Lewis, Phys. Rev. Lett. 75, 878 (1995).
14. L. J. Gao, G. W. Anderson, F. Esposto, P. R. Norton, B. F. Mason, Z. H. Lu, and M. J. Graham, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2053 (1995).
15. G. W. Anderson, M. C. Hanf, P. R. Norton, Z. H. Lu, and M. J. Graham, Appl. Phys. Lett. 65, 171 (1994).
16. R. Iyer, R. R. Chang, and D. L. Lile, Appl. Phys. Lett. 53, 134 (1988).
17. H. Oigawa, J.-F. Fan, Y. Nannichi, H. Sugahara, and M. Oshima, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 30, L322 (1991).
18. Z. H. Lu and M. J. Graham, J. Appl. Phys. 75, 7567 (1994).
19. C. Hammond, A. Back, M. Lawrence, K. Nebesny, P. Lee, R. Schlar, and N. R. Armstrong, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 1768 (1995).
20. W. M. Lau, S. Jin, X.-W. Wu, and S. Ingrey, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 848 (1990).
21. W. M. Lau, S. Jin, X.-W. Wu, and S. Ingrey, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 994 (1991).
22. Z. L. Yuan, B. Lai, X. M. Ding, and X. Y. Hou, Appl. Surf. Sci. 134, 67 (1998).
23. Handbook of Chemistry and Physics, 64th ed., edited by R. C. Weast, M. J. Astle, and W. H. Beyer (Chemical Rubber, New York, 1985), p. B-120.