메뉴 건너뛰기




Volumn 58, Issue 1, 1985, Pages 598-600

A new plasma source based on contact ionization

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords


EID: 0001618525     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.335669     Document Type: Article
Times cited : (10)

References (13)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.