Silicide formation by concentration controlled phase selection

Journal of Applied Physics

Volumn 81, Issue 5, 1997, Pages 2448-2450

  Pretorius, R ^a   Mayer, J W ^b  

^a NATIONAL ACCELERATOR CENTRE   (South Africa)

^b ARIZONA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001453919     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.364252     Document Type: Article

References (23)

1. S. Saitoh, H. Ishiwara, and S. Furukawa, Appl. Phys. Lett. 37, 203 (1980).
2. R. T. Tung, J. M. Gibson, J. C. Bean, J. M. Poate, and D. C. Jacobson, Appl. Phys. Lett. 40, 684 (1982).
3. R. T. Tung, J. M. Gibson, and J. M. Poate, Appl. Phys. Lett. 42, 888 (1983).
4. S. S. Lau, J. W. Mayer, and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 49, 4005 (1978).
5. R. Tung, Mater. Chem. Phys. 32, 107 (1992).
6. M. L. A. Dass, D. D. Fraser, and C. S. Wei, Appl. Phys. Lett. 58, 1308 (1991).
7. S. L. Hsia, T. Y. Tan, P. Smith, and G. E. McGuire, J. Appl. Phys. 70, 7579 (1991).
8. R. T. Tung and F. Schrey, Appl. Phys. Lett. 67, 2164 (1995).
9. R. Pretorius, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 25, 15 (1984).
10. R. Pretorius, R. de Reus, A. M. Vredenberg, and F. W. Saris, J. Appl. Phys. 70, 3636 (1991).
11. J. Li, J. Strane, S. W. Russell, S. T. Hong, J. W. Mayer, T. K. Marais, C. C. Theron, and R. Pretorius, J. Appl. Phys. 72, 2810 (1992).
12. R. Pretorius, T. K. Marais, and C. C. Theron, Mater. Sci. Eng. R. 10, 1 (1993).
13. R. Tung, Appl. Phys. Lett. (to be published).
14. R. Tung, Materials Research Society Spring Meeting, San Francisco, April 1996.
15. R. de Reus, H. C. Tissink, and F. W. Saris, J. Mater. Res. 5, 341 (1990).
16. F. d'Heurle, S. Peterson, L. Stolt, and B. Stritzker, J. Appl. Phys. 53, 5678 (1982).
17. R. M. Walser and R. W. Bené, Appl. Phys. Lett. 28, 624 (1976).
18. M.-A. Nicolet and S. S. Lau, in VLSI Electronics: Microstructural Seience, edited by N. Einspruch (Academic, New York, 1993).
19. O. Kubaschewski and C. B. Alcock, Metallurgical Thermochemistry (Per-gamon, Oxford, 1979).
20. R. Pretorius, C. C. Theron, T. K. Marais, and H. A. Ras, Mater. Chem. Phys. 36, 31 (1993).
21. K. N. Tu, W. N. Hammer, and J. O. Olowolafe, J. Appl. Phys. 51, 1663 (1980).
22. C. A. Pai, S. S. Lau, D. B. Poker, and L. S. Hung, J. Appl. Phys. 58, 4172 (1985).
23. G. Ottaviani, K. N. Tu, W. K. Chu, L. S. Hung, and J. W. Mayer, J. Appl. Phys. 53, 4903 (1982).