Thermal stability of W1-xSix/Si multilayers under rapid thermal annealing

Journal of Applied Physics

Volumn 81, Issue 5, 1997, Pages 2229-2235

  Senderak, R ^a   Jergel, M ^a   Luby, S ^a   Majkova, E ^a   Holy, V ^b   Haindl, G ^c   Hamelmann, F ^c   Kleineberg, U ^c   Heinzmann, U ^c  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (Slovakia)

^b MASARYK UNIVERSITY   (Czech Republic)

^c BIELEFELD UNIVERSITY   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001367985     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.364273     Document Type: Article

References (24)

1. E. Ziegler, G. Marot, A. K. Freund, St. Joksch, H. Kawata, L. E. Berman, and M. Jarocci, Rev. Sci. Instrum. 63, 496 (1992).
2. L. Wu, L. Zhou, B. Wang, W. Liu, S. Xin, Y. Tien, and Y. Hu, Chin. Sci. Bull. 40, 1225 (1995).
3. R. Krawietz, B. Wehner, D. Meyer, K. Richter, H. Mai, R. Dietsch, S. Hopfe, R. Scholz, and W. Ponye, Fresenius J. Anal. Chem. 325, 246 (1995).
4. H. Azuma, A. Takeichi, I. Konomi, Y. Watanabe, and S. Noda, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 2078 (1993).
5. J. B. Kortright, S. Joksch, and E. Ziegler, J. Appl. Phys. 69, 168 (1991).
6. T. W. Barbee, J. C. Rife, W. R. Hunter, M. P. Kowalski, R. G. Cruddace, and J. F. Seely, Appl. Opt. 32, 4852 (1993).
7. R. S. Rosen, D. G. Stearns, M. A. Viliardos, M. E. Kassner, S. P. Vernon, and Y. Cheng, Appl. Opt. 32, 6975 (1993).
8. D. G. Stearns, M. B. Stearns, Y. Cheng, J. H. Stith, and N. M. Ceglio, J. Appl. Phys. 67, 2415 (1990).
9. H. Takenaka, T. Kawamura, Y. Ishii, and S. Asagiri, J. Appl. Phys. 78, 5227 (1995).
10. H.-J. Stock, U. Kleineberg, B. Heidemann, K. Hilgers, A. Kloidt, B. Schmiedeskamp, U. Heinzmann, M. Krumrey, P. Muller, and F. Scholze, Appl. Phys. A 58, 371 (1994).
11. M. Brunel, S. Enzo, M. Jergel, S. Luby, E. Majkova, and I. Vavra, J. Mater. Res. 8, 2600 (1993).
12. V. V. Kondratenko, Yu. P. Pershin, O. V. Poltseva, A. I. Fedorenko, E. N. Zubarev, S. A. Yuchin, I. V. Kozhevnikov, S. I. Sagitov, V. A. Chirkov, V. E. Levashov, and A. Vinogradov, Appl. Opt. 32, 1811 (1993).
13. H.-J. Stock, U. Kleineberg, A. Kloidt, B. Schmiedeskamp, U. Heinzmann, M. Krumrey, P. Muller, and F. Scholze, Appl. Phys. Lett. 63, 2207 (1993).
14. U. Kleineberg, H.-J. Stock, A. Kloidt, B. Schmiedeskamp, U. Heinzmann, S. Hopfe, and F. Scholze, Phys. Status Solidi A 145, 539 (1994).
15. E. Majkova, M. Jergel, R. Senderak, S. Luby, and M. Babinsky, Fizika (Zagreb) A4, 245 (1995).
16. J. H. Underwood, E. M. Gulikson, and K. Nguyen, Appl. Opt. 32, 6985 (1993).
17. M. Jergel, E. Majkova, and S. Luby, J. Phys. IV 3, 337 (1993).
18. M. Jergel, V. Holy, E. Majkova, S. Luby, and R. Senderak, J. Phys. D 28, A241 (1995).
19. V. Holy and T. Baumbach, Phys. Rev. B 49, 10 668 (1994).
20. S. Luby, E. Majkova, P. Lobotka, I. Vavra, M. Jergel, R. Senderak, and J. Grno, Physica C 197, 35 (1992).
21. S. P. Murarka, Silicides for VLSI Applications (Academic, New York, 1983).
22. M. Jergel, Z. Bochnicek, E. Majkova, R. Senderak, and S. Luby, Appl. Phys. Lett. 69, 919 (1996).
23. B. Heidemann, T. Tappe, B. Schmiedeskamp, and U. Heinzmann, Thin Solid Films 228, 60 (1993).
24. D. P. Gaines, R. C. Spitzer, N. N. Ceglio, M. Krumrey, and G. Ulm, Appl. Opt. 32, 6991 (1993).