Epitaxial growth of highly conductive RuO2 thin films on (100) Si

Applied Physics Letters

Volumn 68, Issue 8, 1996, Pages 1069-1071

  Jia, Q X ^a   Song, S G ^a   Wu, X D ^a   Cho, J H ^a   Foltyn, S R ^a   Findikoglu, A T ^a   Smith, J L ^a  

^a LOS ALAMOS NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001306657     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.115715     Document Type: Article

References (19)

1. M. L. Green, M. E. Gross, L. E. Papa, K. J. Schones, and D. Brasen, J. Electrochem. Soc. INS 132, 2677 (1985).
2. E. Kolawa, F. C. T. So, E. T.-S. Pan, and M.-A. Nicolet, Appl. Phys. Lett. AIP 50, 854 (1987).
3. L. Krusin-Elbaum, M. Wittmer, and D. S. Yee, Appl. Phys. Lett. AIP 50, 1879 (1987).
4. J. A. Armstrong and M. Shafer, IBM Tech. Disc. Bull. 20, 4633 (1978).
5. Q. X. Jia, Z. Q. Shi, K. L. Jiao, W. A. Anderson, and F. M. Collins, Thin Solid Films INS 196, 29 (1991).
6. R. G. Vadimsky, R. P. Frankenthal, and D. E. Thompson, J. Electrochem. Soc. INS 126, 2017 (1979).
7. I. K. Yoo and S. B. Desu, Phys. Status Solidi A INS 133, 565 (1992).
8. S. D. Bernstein, T. Y. Wong, Y. Kisler, and R. W. Tustison, J. Mater. Res. AIP 8, 12 (1993).
9. Q. X. Jia, L. H. Chang, and W. A. Anderson, J. Mater. Res. AIP 9, 2561 (1994).
10. H. N. Al-Shareef, K. R. Bellur, A. I. Kingon, and O. Auciello, Appl. Phys. Lett. AIP 66, 239 (1995).
11. K. Takemura, T. Sakuma, and Y. Miyasaka, Appl. Phys. Lett. AIP 64, 2967 (1994).
12. K. Yoshikawa, T. Kimura, H. Noshiro, S. Otani, M. Yamada, and Y. Furumura, Jpn. J. Appl. Phys. INS 33, L867 (1994).
13. J. Si and S. B. Desu, J. Mater. Res. AIP 8, 2644 (1993).
14. D. K. Fork, D. B. Fenner, G. A. N. Connell, J. M. Phillips, and T. H. Geballe, Appl. Phys. Lett. AIP 57, 1137 (1990).
15. Q. X. Jia, S. G. Song, X. D. Wu, and S. R. Foltyn, J. Mater. Res. AIP 10, 2401 (1995).
16. D. B. Fenner, A. M. Viano, D. K. Fork, G. A. N. Connell, J. B. Boyce, F. A. Ponce, and J. C. Tramontana, J. Appl. Phys. AIP 69, 2176 (1991).
17. A. Bardal, O. Eibl, Th. Matthee, G. Friedl, and J. Wecker, J. Mater. Res. AIP 8, 2112 (1993).
18. W. D. Ryden, A. W. Lawson, and C. C. Sartain, Phys. Rev. B AIP 1, 1494 (1970).
19. S. Y. Mar, J. S. Liang, C. Y. Sun, and Y. S. Huang, Thin Solid Films INS 238, 158 (1994).