Magneto-impedance of glass-coated Fe–Ni–Cu microwires

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 9, 2000, Pages 4810-4812

  Wiggins, J ^a   Srikanth, H ^a   Wang, K Y ^a   Spinu, L ^a   Tang, J ^a  

^a UNIVERSITY OF NEW ORLEANS   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001152244     PISSN: 00218979     EISSN: 10897550     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.373167     Document Type: Conference Paper

References (11)

1. L. V. Panina, K. Mohri, K. Bushida, and M. Noda, J. Appl. Phys. JAPIAU 76, 6204 (1994).
2. D. Menard, M. Britel, P. Ciureanu, and A. Yelon, J. Appl. Phys. JAPIAU 84, 2805 (1998).
3. D.-X. Chen, J. L. Munoz, A. Hernando, and M. Vazquez, Phys. Rev. B PRBMDO 57, 10699 (1998).
4. D. Atkinson and P. T. Squire, J. Appl. Phys. JAPIAU 83, 6569 (1998).
5. M. L. Sartorelli, M. Knobel, J. Schoenmaker, J. Gutierrez, and J. M. Barandiaran, Appl. Phys. Lett. APPLAB 71, 2208 (1997).
6. K.-Y. Wang, L. Feng, C. J. O’Connor, J. Tang, D.-X. Chen, M. Vazquez, and A. Hernando, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 4474 (1999).
7. H. Srikanth, J. Wiggins, and H. Rees, Rev. Sci. Instrum. RSINAK 70, 3097 (1999).
8. Y. Yamasaki, K. Mohri, H. Kawamura, H. Takamura, and F. B. Humphrey, IEEE Transl. J. Magn. Jpn. ITJJER 4, 360 (1989).
9. M. T. Gonzalez, K. L. Garcia, and R. Valenzuela, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 1 (1999).
10. D. Menard, D. Frankland, P. Ciureanu, A. Yelon, M. Rouabhi, R. W. Cochrane, H. Chiriac, and T. A. Ovari, J. Appl. Phys. JAPIAU 83, 6566 (1998).
11. S. S. Yoon, S. C. Yu, G. H. Ryu, and C. G. Kim, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 5432 (1999).