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Volumn 104, Issue 20, 2000, Pages 4674-4684

H2 cracking at SiO2 defect centers

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EID: 0000972655     PISSN: 10895639     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp993214f     Document Type: Article
Times cited : (73)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.