A systematic study on structural and dielectric properties of lead zirconate titanate/(Pb,La)(Zr(1-x)Ti(x))O3 thin films deposited by metalloorganic decomposition technology

Journal of Applied Physics

Volumn 79, Issue 8, 1996, Pages 4283-4290

  Zhu, W ^a   Liu, Z Q ^a   Lu, W ^a   Tse, M S ^a   Tan, H S ^a   Yao, X ^a,b  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000944711     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.361797     Document Type: Article

References (50)

1. J. F. Scott and C. A. Paz de Araiyo, Science 246, 1400 (1989).
2. J. T. Evans and R. Womack, IEEE J. Solid-State Circuits 23, 1171 (1988).
3. R. Moazzami and C. Hu, IEEE Trans. Electron Devices 39, 2044 (1992).
4. R. W. Vest and W. Zhu, Ferroelectics 119, 61 (1991).
5. S. D. Bernstein, T. Y. Wong, Y. Kisler, and R. W. Tustison, J. Mater. Res. 8, 12 (1993).
6. C. B. Fleddermann, Integrated Ferroelectrics 5, 29 (1994).
7. B. A. Tuttle, T. J. Headley, B. C. Bunker, R. W. Schwartz, T. J. Zender, C. L. Hernandez, D. C. Goodnow, R. J. Tissot, and J. Michael, J. Mater. Res. 7. 1876 (1992).
8. G. H. Heartling, in Ceramic Materials for Electronics, edited by R. C. Buchanan (Dekker, New York, 1986), Chap. 3, p. 184.
9. R. Cuppens, P. K. Larsen, and G. A. C. M. Spierings, Microelectron. Eng. 19, 245 (1992).
10. M. Oikawa and K. Toda, Appl. Phys. Lett. 29, 491 (1976).
11. R. Castellano, Ferroelectrics 28, 387 (1980).
12. X. Chen, A. I. Kingon, L. Mantese, O. Auciello, and K. Y. Hsieh, Integrated Ferroelectrics 3, (1993).
13. C. H. Peng and S. B. Desu, Appl. Phys. Lett. 61, 1 (1992).
14. K. D. Budd, S. K. Dey, and D. A. Payne, Proc. Br. Ceram. Soc. 36, 107 (1985).
15. W. Zhu, R. W. Vest, M. S. Tse, M. K. Rao, and Z. Q. Liu, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 5, 173 (1994).
16. C. Y. Kuo, Solid State Technol. February, 49 (1974).
17. R. W. Vest, Ferroelectrics 102, 53 (1990).
18. G. M. Vest and S. Singaram, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 60, 35 (1986).
19. B. Jaffe, R. S. Roth, and S. Marzullo, J. Res. Natl. Bur. Stand. 55, 239 (1955).
20. G. Shirane and K. Suzuki, J. Phys. Soc. Jpn. 7, 333 (1952).
21. G. Shirane, K. Suzuki, and A. Takeda, J. Phys. Soc. Jpn. 7, 12 (1952).
22. E. Sawaguchi, J. Phys. Soc. Jpn. 7, 12 (1952).
23. C. Michel, J. M. Moreau, G. D. Achenbach, R. Gerson, and W. J. James, Solid State Commum. 7, 865 (1969).
24. A. Grill, W. Kane, J. Viggiano, M. Btady, and R. Laibowitz, J. Mater. Res. 7, 3260 (1992).
25. S. Fushimi and T. Ikeda, J. Am. Ceram. Soc. 50, 129 (1967).
26. G. H. Heartling and C. E. Land, J. Am. Ceram. Soc. 54, 1 (1971).
27. C. K. Kwok and B. Desu, Appl. Phys. Lett. 60, 1430 (1992).
28. L. A. Bursill and K. G. Brooks, J. Appl. Phys. 75, 4501 (1994).
29. B. D. Cullity, Elements of X-Ray Diffraction, 2nd ed. (Addison-Wesley, Menlo Park, 1978).
30. L. H. Schwartz and J. B. Cohen, Diffraction From Materials (Academic, New York, 1977).
31. R. E. Riman, D. M. Haaland, C. J. M. Northrup, Jr., H. K. Bowen, and A. Bleier, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 23, 233 (1984).
32. N. T. McDevitt and W. L. Baun, Spectrochim. Acta 70, 799 (1964).
33. V. Zelezny, P. Simon, F. Gervais, and T. Kala, Mater. Res. Bull. 22, 1695 (1987).
34. C. T. Lin, L. Li, J. S. Webb, R. A. Lipeles, and M. S. Leung, Integrated Ferroelectrics 3, 333 (1993).
35. S. Li, R. A. Condrate, and R. M. Spriggs, J. Can. Ceram. Soc. 57, 61 (1988).
36. I. Taguchi, A. Pignolet, L. Wang, M. Proctor, F. Levy, and P. E. Schmid, J. Appl. Phys. 73, 394 (1993).
37. G. Burns and B. A. Scott, Phys. Rev. Lett. 25, 1191 (1970).
38. W. J. Brya, Phys. Rev. Lett. 26, 1114 (1971).
39. Z. C. Feng, B. S. Kwak, A. Erbil, and L. A. Boatner, Appl. Phys. Lett. 64, 2350 (1994).
40. J. A. Sanjurjo, E. L. Cruz, and G. Burns, Phys. Rev. B 28, 7260 (1983).
41. A. Lurio and G. Burns, J. Appl. Phys. 45, 1986 (1974).
42. M. H. Lee and B. C. Choi. J. Am. Ceram. Soc. 74, 2309 (1991).
43. A. H. Carim, B. A. Tuttle, D. H. Doughty, and S. L. Martinez, J. Am. Ceram. Soc. 74, 1455 (1991).
44. S. A. Myers and L. N. Chapin, Ferroelectric Thin Films, edited by E. R. Myers and A. I. Kingon, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., Vol. 200 (MRS, Pittsburgh, PA, 1990), p. 219.
45. C. K. Kwok and S. B. Desu, J. Mater. Res. 9, 1728 (1994).
46. I. O. Owate and R. Freer, J. Appl. Phys. 72, 2418 (1992).
47. M. Klee, R. Eusemann, R. Waser, W. Brand, and H. van Hal, J. Appl. Phys. 72, 1566 (1992).
48. Q. Y. Jiang, E. C. Subbarao, and L. E. Cross, J. Appl. Phys. 75, 7433 (1994).
49. J. F. Scott, B. M. Melnick, J. D. Cuchiaro, R. Zuleeg, C. A. Araujo, L. D. McMillan, and M. C. Scott, Integrated Ferroelectrics 4, 85 (1994).
50. J. F. Chang and S. B. Desu, J. Mater. Res. 9, 955 (1994).