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Volumn 49, Issue 23, 1994, Pages 16367-16371

Model for amorphization processes in ion-implanted Si

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EID: 0000904107     PISSN: 01631829     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.49.16367     Document Type: Article
Times cited : (38)

References (26)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.