메뉴 건너뛰기




Volumn 68, Issue 22, 1996, Pages 3111-3113

Using doping superlattices to study transient-enhanced diffusion of boron in regrown silicon

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords


EID: 0000879118     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.116439     Document Type: Article
Times cited : (32)

References (22)
  • 11
    • 17544362859 scopus 로고    scopus 로고
    • A. Claverie, C. Bonafos, A. Martinez, and D. Alquier, Solid State Phenomena 47-48, 195 (1996).
    • A. Claverie, C. Bonafos, A. Martinez, and D. Alquier, Solid State Phenomena 47-48, 195 (1996).
  • 16
    • 21544450463 scopus 로고    scopus 로고
    • R. B. Fair, in Impurity Doping Processes in Silicon, edited by F. F. Y. Wang (North Holland, New York, 1981), Chap. 7.
    • R. B. Fair, in Impurity Doping Processes in Silicon, edited by F. F. Y. Wang (North Holland, New York, 1981), Chap. 7.
  • 19
    • 21544484250 scopus 로고    scopus 로고
    • K. S. Jones, L. Zhang, M. Law, D. S. Simons, L. Rubin, and R. G. Elliman, Appl. Phys. Lett. (submitted).
    • K. S. Jones, L. Zhang, M. Law, D. S. Simons, L. Rubin, and R. G. Elliman, Appl. Phys. Lett. (submitted).


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.