Novel arf excimer laser resists based on menthyl methacrylate terpolymer

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 9, Issue 3, 1996, Pages 457-464

  Shida, Naomi ^a   Ushirogouchi, Tohru ^a   Asakawa, Kohji ^a   Nakase, Makoto ^a  

^a TOSHIBA CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000813458     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.9.457     Document Type: Article

References (30)

1. (l)(a) Kunz, R. R.; Horn, M. W.; Paladugu, R. R.; Shaver, D. C; Smith, D. A.; Freed, C. A. Proc. SPIE 1991,1466, 218.
2. (b) Kunz, R. R.; Hörn, M. W. Reg. Tech. Conf. Photopolymers, PrinciplesProcess and Materials, Oct. 28-31,1991 (New York).
3. Wallraff, G. M.; Miller, R. D.; Baier, M.; Ginsburg, E. J.; Kunz, R. R. J. Photopolym. Sei. Technol. 1992,5, 111.
4. Kunz. R. R.; Hörn, M. W.; Goodman, R. B.; Bianconi, P. A.; Smith, D. A.; Eshelman, J. R.; Wallraff, G. M.; Miller, R. D.; Ginsberg, E. J. Proc. SPIE 1992, 7672, 385.
5. (e) Kunz, R. R.; Hörn, M. W.; Bianconi, P. A.; Smith, D. A.; Eshelman, J. R. J. Vac. Sei. Technol. 1992, BW, 2554.
6. (2)(a) Johnson, D. W.; Hartney, M. A. Jpn. J. Appl. Phys. 1992,31,4321.
7. (b) Hartney. M. A.; Thacheray, J. W. Proc. SPIE 1992, 7672, 486.
8. Hörn, M. W.; Hartney, M. A.; Kunz, R. R. Proc. SPIE 1992, 7672, 448.
9. Ito, H.; Willson, C. G.; Polym. Eng. Sei. 1983, 23, 1012.
10. (4)(a) Takahashi, M.; Takechi, S.; Nozaki, K.; Kaimoto, Y.; Abe, N. J. Photopolym. Sei. Techonol. 1994, 7, 31.
11. (b) Takechi, S.; Kaimoto, Y. Nozaki, K.; Abe, N. J. Photopolym. Sei. Technol. 1992, 5, 439.
12. Kaimoto, Y.; Nozaki, K.; Takechi, S.; Abe, N. Proc. SPIE 1992, 7672, 66.
13. (5)(a) Allen, R. D.; Wallraff, G. M.; Hinsberg, W. D.; Conley, W. E.; Kunz, R. R. Solid State Technol. 1993, Nov. 53.
14. (b)Wallraf, G. M.; Allen, R. D.; Hinsberg, W. D.; Larson, C. F.; Johnson, R. D.; Dipierto, R.; Breyta, G.; Hacker, N.; Kunz, R. R. J. Vac. Sei. Technol. 1993,577, 2783.
15. (6)(a) Matsushita, Nikkei Microdevices 1993, Jan. 75.
16. (b) Yamashita, K.; Endo, M.; Sasago, M.; Nomura, N.; Nagano, H.; Mizuguchi, S..; Ono, T; Sato, T. J. Vac. Sei. Technol. 1993, BII, 2692.
17. Endo, M.; Hasimoto, K.; Yamashita, K.; Katsytama, A.; Matsyo, T; Tani, Y; Sasago, M.; Nomura, N. IEEE IEDM1992,45(3.1.1).
18. Nakano, K.; Maeda, K.; Iwasa, S.; Yano, J.; Ogura, Y; Hasegawa, E. Proc. SPIE 1994,2795, 194.
19. Shida, N. Ph. D. Dissertation, University ofTohoku, 1992.
20. (9)(a) Naito, T; Asakawa, K.; Shida, N.; Ushirogouchi, T; Nakase, M. Jpn. J. Appl. Phys. 1994, 33, 7028.
21. (b) Ushirogouchi, T; Kihara, N.; Saito, S.; Naito, T; Asakawa, K.; Tada, T; Proc. SPIE 1994, 2795,205.
22. (10)(a) Kunz, R. R.; Allen, R. D.; Hinsberg, W. D.; Wallraff, G. M. Proc. SPIE 1993, 7925, 167.
23. Gokan. H.; Esho, S.; Ohnishi, Y J. Electrochem. Soc. 1983, 730, 143.
24. (b)Allen, R. D.; Ly, Q. P.; Wallraff, G. M.; Larson, C. E.; Hinsberg. W. D.; Conley, W. E.; Muller, K. P. Proc. SPIE 1993, 7925, 246.
25. Wallraff, G. M.; Allen, R. D.; Hinsberg, W. D.; Willson, C. G. J. Imaging. Sei. Technol. 1992, 36, 468.
26. Allen, R. D.; Wallraff, G. M.; Hinsberg, W. D.; Simpson, L. L. J. Vac. Sei. Technol. 1991, B9, 3357.
27. (e) Ito, H.; Ueda, M. Macromolecules 1988, 27, 1475.
28. (f) Allen, R. D.; Wallraff, G. M.; Hinsberg, W. D.; Conley, W. E.; Kunz, R. R. J. Photopolym. Sei. Techonol. 1993,6, 575.
29. (g) Kunz, R. R.; Hartney, M. A.; Hörn, M. W.; Keast, C. L.; Rothschild, M.; Shaver, D. C. J. Photopolym. Sei. Technol. 1993,6, 473.
30. (h) Wallraff, G. M.; Allen, R. D.; Hinsberg, W. D.; Simpson, L. L.; Kunz, R. R. Chemtech 1993, 23(4), 22.