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Volumn 72, Issue 1, 1992, Pages 291-293

Electromigration in two-level interconnect structures with Al alloy lines and W studs

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EID: 0000745086     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.352335     Document Type: Article
Times cited : (30)

References (13)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.