Effects of ambient gas pressure on (1-x) SrTiO3-xBaTiO3 films prepared by pulsed laser deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 9, 1996, Pages 4984-4989

  Tseng, Tzu Feng ^a   Yeh, Ming Hua ^a   Liu, Kuo Shung ^a   Lin, I Nan ^a  

^a NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000700629     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363464     Document Type: Article

References (20)

1. T. Horikawa, N. Mikami, T. Makita, J. Tanimura, M. Kataoka, K. Sato, and M. Nunoshita, Jpn. J. Phys. 32, 4126 (1993).
2. A. A. Gitelson, A. M. Lerer, V. S. Mikhalevskii, V. M. Mukhortov, and S. V. Orlov, Sov. Phys. Solid State 19, 1121 (1977).
3. L. H. Parker and Al. F. Tasch, IEEE Circuits Devices Mag. 1, 17 (1990).
4. Al. F. Tasch, Jr. and L. H. Parker, IEEE 77, 374 (1989).
5. K. Fujimoto, Y. Kobayashi, and K. Kubota, Thin Solid Films 169, 249 (1989).
6. K. Screenivas and A. Mansingh, J. Appl. Phys. 62, 4475 (1987).
7. K. Lijima, T. Terashima, K. Yamamoto, K. Hirata, and Y. Bando, Appl. Phys. Lett. 56, 1527 (1990).
8. S. Kwak, K. Zhang, E. P. Boyd, A. Erbil, and B. J. Wilkens, J. Appl. Phys. 69, 767 (1991).
9. M. N. Kamalasanan, S. Chandra, P. C. Goshi, and A. Mansingh, Appl. Phys. Lett. 59, 3547 (1991).
10. G. M. Davis and M. C. Gower, Appl. Phys. Lett. 55, 112 (1989).
11. C. Scarfone, M. G. Norton, C. B. Carter, and J. W. Mayer, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 201, 183 (1991).
12. R. Ramesh, A. Inam, B. Wikens, W. K. Chan, T. Sands, J. M. Tarascon, D. K. Fork, T. H. Gabelle, J. Evans, and J. Bullington, Appl. Phys. Lett. 59, 1782 (1991).
13. K. Nashimoto, D. K. Fork, and T. H. Geballe, Appl. Phys. Lett. 60, 1199 (1992).
14. M. G. Norton, K. P. B. Cracknell, and C. B. Carter, J. Am. Ceram. Soc. 75, 1999 (1992).
15. M. H. Yeh, Y. C. Liu, K. S. Liu, I. N. Lin, J. Y. M. Lee, and H. F. Cheng, J. Appl. Phys. 74, 2143 (1993).
16. J. P. Wang, Y. C. Ling, H. F. Cheng, and I. N. Lin (unpublished).
17. H. F. Cheng, M. H. Yeh, K. S. Liu, and I. N. Lin, Jpn. J. Appl. Phys. I 32, 5656 (1993).
18. L. Lynds and B. R. Weinberger, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 191, 3 (1990).
19. Y. Nishikawa, Y. Yoshida, and K. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. I 31, 524 (1992).
20. Film Deposition by Plasma Techniques, edited by M. Lonuma (Springer, New York, 1992), Chap. 4.