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Volumn 67, Issue 5, 1990, Pages 2195-2198

Density relaxation of silicon dioxide on (100) silicon during thermal annealing

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EID: 0000696153     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.345563     Document Type: Article
Times cited : (57)

References (27)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.