Electron-beam microcolumns for lithography and related applications

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 14, Issue 6, 1996, Pages 3774-3781

  Chang, T H P ^a   Thomson, M G R ^a   Kratschmer, E ^a   Kim, H S ^a   Yu, M L ^a   Lee, K Y ^a   Rishton, S A ^a   Hussey, B W ^a   Zolghamain, S ^b  

^a IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

^b Columbia University ^*  (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000651404     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.588666     Document Type: Article

References (53)

1. E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, S. Zolgharnain, B. W. Hussey, and T. H. P. Chang, these proceedings.
2. T. H. P. Chang, D. P. Kern, and L. P. Muray, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1698 (1990).
3. T. H. P. Chang, M. G. R. Thomson, M. L. Yu, E. Kratschmer, H. S. Kim, K. Y. Lee, S. A. Rishton, and D. P. Kern, SPIE Inst. Adv. Opt. Technol. 2522, 4 (1995).
4. C. Stehler, M. Despont, and U. Staufer, Microelectron. Eng. 27, 155 (1995).
5. L. S. Hordon and R. F. W. Pease, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 1686 (1990).
6. W. Liu, T. Ambe, and R. F. W. Pease, these proceedings.
7. Y. Tao, S. Fu, D. Li, Z. Liu, and J. Ximen, these proceedings.
8. A. D. Feinerman, D. A. Crewe, D. C. Perng, S. E. Shoaf, and A. V. Crewe, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 611 (1992).
9. A. D. Feinerman, D. A. Crewe, D. E. Bromley, M. Ruffin, C. A. Spindt, P. R. Schwoebel, C. Holland, and A. V. Crewe, these proceedings.
10. G. M. Schedd, H. Schmid, P. Unger, and H-W. Fink, Rev. Sci. Instrum. 64, 2579 (1993).
11. M. Fukuoka, Y. Sakai, K. Tsunoda, and T. Ichinokawa, Rev. Sci. Instrum. 65, 2844 (1994).
12. W. Hofmann, L. Chen, and N. C. MacDonald, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2701 (1995).
13. B. D. Terris, O. Zuger, and D. Rugar, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2315 (1993).
14. M. A. McCord, T. H. P. Chang, D. P. Kern, and J. Speidell, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1851 (1989).
15. T. H. P. Chang, D. P. Kern, and M. McCord, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1855 (1989).
16. L. P. Muray, U. Staufer, E. Bassous, D. P. Kern, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 2955 (1991).
17. L. P. Muray, U. Staufer, D. P. Kern, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2749 (1992).
18. E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3503 (1994).
19. E. Kratschmer, H. S. Kim, M. G. R. Thomson, K. Y. Lee, S. A. Rishton, M. L. Yu, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2498 (1995).
20. M. G. R. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3498 (1994).
21. M. G. R. Thomson and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2445 (1995).
22. H. S. Kim, E. Kratschmer, M. L. Yu, M. G. R. Thomson, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3413 (1994).
23. H. S. Kim, E. Kratschmer, M. L. Yu, B. Hussey, M. G. R. Thomson, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2468 (1995).
24. M. L. Yu, B. W. Hussey, H. S. Kim, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3431 (1994).
25. U. Staufer, L. P. Muray, D. P. Kern, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 2962 (1991).
26. H. S. Kim, M. L. Yu, U. Staufer, L. P. Muray, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2327 (1993).
27. W. K. Lo, G. Parthasarathy, C. W. Lo, D. M. Tanenbaum, H. G. Craighead, and M. S. Isaacson, these proceedings.
28. M. L. Yu, B. W. Hussey, E. Kratschmer, T. H. P. Chang, and W. A. Mackie, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2436 (1995).
29. M. L. Yu, H. S. Kim, B. W. Hussey, T. H. P. Chang, and W. A. Mackie, these proceedings.
30. K. Y. Lee, S. A. Rishton, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3425 (1994).
31. K. Y. Lee, N. LaBianca, S. A. Rishton, S. Zolgharnain, J. D. Gelorme, J. M. Shaw, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 3012 (1995).
32. M. G. R. Thomson, these proceedings.
33. S. Kleindiek, H. S. Kim, E. Kratschmer, and T. H. P. Chang, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2563 (1995).
34. D. M. Tannenbaum, C. W. Lo, M. Isaacson, H. G. Craighead, M. J. Rooks, K. Y. Lee, W. S. Huang, and T. H. P. Chang, these proceedings.
35. C. W. Lo, M. J. Rooks, W. K. Lo, M. Isaacson, and H. G. Craighead, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 812 (1995).
36. C. W. Lo, W. K. Lo, M. J. Rooks, M. Isaacson, H. G. Craighead, and A. E. Novembre, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2980 (1995).
37. L. W. Swanson and D. Tuggle, Appl. Surf. Sci. 8, 185 (1981).
38. J. Orloff, Scanning Electron Microsc. 1984 IV, 1585 (1984).
39. T. E. Everhart, J. Appl. Phys. 38, 4944 (1967).
40. A. V. Crewe, M. Isaacson, and D. Johnson, Rev. Sci. Instrum. 40, 241 (1969).
41. W. K. Lo, M. Skvarla, C. W. Lo, H. G. Craighead, and M. S. Isaacson, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2441 (1995).
42. L. W. Swanson, J. Vac. Sci. Technol. 12, 1228 (1975).
43. M. Gesley, J. Appl. Phys. 65, 914 (1989).
44. M. G. R. Thomson, R. Liu, R. J. Collier, H. T. Carroll, E. T. Doherty, and R. G. Murray, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 53 (1987).
45. K. Y. Lee and W. S. Huang, J. Vac. Sci. Technol. B 1, 2807 (1993).
46. G. Wallis and D. I. Pomerantz, J. Appl. Phys. 40, 3946 (1969).
47. K. B. Albaugh, J. Electrochem. Soc. 138, 3089 (1992).
48. K. B. Albaugh, Mater. Lett. 4, 465 (1986).
49. T. H. P. Chang, D. P. Kern, and L. P. Muray, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2743 (1992).
50. T. H. P. Chang, L. P. Muray, U. Staufer, M. A. McCord, and D. P. Kern, SPIE Inst. Adv. Opt. Technol. IS10, 127 (1993).
51. D. S. Alles, C. J. Biddick, J. H. Bruning, J. T. Clemens, R. J. Collier, E. A. Gere, L. R. Harriott, F. Leone, R. Liu, T. J. Mulrooney, R. J. Nielsen, N. Paras, R. M. Richman, C. M. Rose, D. P. Rosenfeld, D. E. A. Smith, and M. G. R. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 47 (1987).
52. F. J. Hohn, D. P. Kern, P. Coane, W. Bruenger, and T. H. P. Chang, in Proceedings of the 10th International Conference on Electron and Ion Beam Science and Technology, 1982, p. 150.
53. J. C. Beckman, T. H. P. Chang, A. Wagner, and R. F. W. Pease, these proceedings.