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Volumn 102, Issue 45, 1998, Pages 8759-8765

Photochemical insertion reaction of Hg in SiH4/SiD4 in low-temperature N2, Ar, and Kr matrixes. Formation of radicals in Kr

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EID: 0000554188     PISSN: 10895639     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp9821533     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.