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Volumn 69, Issue 9, 1996, Pages 1270-1272

Void formation on ultrathin thermal silicon oxide films on the Si(100) surface

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EID: 0000537833     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.117388     Document Type: Article
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References (20)
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    • Omicron Associates UHV AFM/STM
    • Omicron Associates UHV AFM/STM.


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.