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Volumn 47, Issue 10, 1985, Pages 1095-1097

Pulsed high rate plasma etching with variable Si/SiO2 selectivity and variable Si etch profiles

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EID: 0000518110     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.96340     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.