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Volumn 97, Issue 40, 1993, Pages 10287-10294

Temperature dependence of the reactivity of OH(X2Π) with oxidized silicon nitride and PMMA film surfaces

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EID: 0000488086     PISSN: 00223654     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/j100142a006     Document Type: Article
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.