Recent progress in electron-beam cell projection technology

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 35, Issue 12 SUPPL. B, 1996, Pages 6404-6414

  Yamashita, Hiroshi ^a,b   Nozue, Hiroshi ^a   Nomura, Eiichi ^a   Itoh, Katsuyuki ^a   Ema, Takahiro ^a   Hirasawa, Satomi ^a   Kojima, Katuyoshi ^a   Tamura, Takao ^a   Nakajima, Ken ^a  

^a NEC CORPORATION   (Japan)

^b UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

Author keywords

Cell projection; Coulomb interaction; Critical dimension; DRAM; Electron beam lithography; Inspection; Mask; Proximity effect; Resist

Indexed keywords

EID: 0000451468     PISSN: 00214922     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/jjap.35.6404     Document Type: Article

References (69)

1. M. Fujita, K. Shiozawa, T. Kase, H. Hayakawa, F. Mizuno, R. Haruta, F. Murai and S. Okazaki: IEEE J. Solid-State Circuit SC-28 (1988) 514.
2. H. C. Pheiffer: IEEE Trans. Electron Devices 26 (1979) 663.
3. Y. Nakayama, S. Okazaki, N. Saitou and H. Wakabayashi: J. Vac. Sci. Technol. B 8 (1990) 1836.
4. H. Yasuda, K. Sakamoto, A. Yamada and K. Kawashima: Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3098.
5. Y. Sakitani, H. Yoda, H. Todokoro, Y. Shibata, T. Yamazaki, K. Ohbitu, N. Saitou, S. Moriyama, S. Okazaki, G. Matuoka, F. Murai and M. Okumura: J. Vac. Sci. & Technol. B10 (1992) 2759.
6. K. Hattori, R. Yoshikawa, H. Wada, H. Kasukabe, T. Yamaguchi, S. Magoshi, A. Miyagaki, S. Yamasaki, T. Takigawa, M. Kanoh, S. Nishimura, H. Housai and S. Hashimoto: J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2346.
7. H. C. Pfeiffer: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6658.
8. S. D. Berger, J. M. Gibson, R. M. Camarda, R. C. Farrow, H. A. Huggins, J. S. Kraus and J. A. Liddle: J. Vac. Sci. Technol. B9 (1991) 2996.
9. H. Yasuda, S. Arai, J. Kai, Y. Oae, T. Abe, Y. Takahashi, S. Fueki, S. Maruyama, S. Sago and K. Betsui: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6012.
10. T. H. P. Chang, D. P. Kern and L. P. Muray: J. Vac. Sci. & Technol. B10 (1992) 2743.
11. N. Shimazu, K. Saitou and M. Fujinami: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6689.
12. K. Sakamoto, S. Fueki, S. Yamazaki, T. Abe, K. Kobayashi, H. Nishino, T. Satoh, A. Takemoto, A. Ookura, M. Ohno, S. Sagoh, Y. Oae, A. Yamada, J. Kai and H. Yasuda: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6006.
13. K. Sakamoto, S. Fueki, S. Yamazaki, T. Abe, K. Kobayashi, H. Nishino, T. Satoh, A. Takemoto, A. Ookura, M. Ohno, S. Sagoh, Y. Oae, A. Yamada and H. Yasuda: J. Vac. Sci. & Technol. B11 (1993) 2357.
14. F. Murai, Y. Nakayama, I. Sakama, T. Kaga, Y. Nakagome and Y. Kawamoto: Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) 2590.
15. K. Nakajima, Y. Kojima, S. Hirasawa, H. Mukai, S. Ishida, T. Hirota, K. Kondoh and N. Aizaki: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6023.
16. F. Mizuno, K. Kato, H. Hayakawa, K. Sato, K. Hasegawa, Y. Sakitani, N. Saitou, F. Murai, H. Shiraishi and S. Uchino: J. Vac. Sci. & Technol. B12 (1994) 3440.
17. T. Fujino, A. Ishii, K. Kawai, M. Matsuba, S. Nakao, Y. Watakabe and Y. Akasaka: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4262.
18. K. Moriizumi, S. Takeuchi, T. Fujino, S. Aoyama, M. Yoneda, H. Morimoto and Y. Watakabe: Jpn. J. Appl. Phys. 29 (1990) 2584.
19. M. Kawano, K. Mizuno, H. Yada, Y. Sakitani, K. Andou and N. Saitou: J. Vac. Sci. & Technol. B11 (1993) 2323.
20. Y. Sohda, Y. Nakayama, N. Saitou, H. Itoh and H. Todokoro: J. Vac. Sci. & Technol. B9 (1991) 2940.
21. H. Itoh, H. Todokoro, Y. Sohda, Y. Nakayama and N. Saitou : J. Vac. Sci. & Technol. B10 (1992) 2799.
22. Y. Sohda, Y. Nakayama, N. Saitou, H. Itoh and H. Todokoro: J. Vac. Sci. & Technol. B9 (1991) 2940.
23. H. Yamashita, K. Tokunaga, E. Nomura, Y. Kojima and H. Nozue: J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 2473.
24. T. Tamura, K. Nakajima and H. Nozue: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 6953.
25. H. Yamashita, T. Tamura, E. Nomura and H. Nozue, Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6684.
26. K. Itoh, H. Yamashita, T. Ema and H. Nozue: to be published in Proc. SPIE 2793 (1996).
27. H. Yamashita, E. Nomura, T. Ema, K. Itoh and H. Nozue: to be published in J. Vac. Sci. Technol. B14 (1996).
28. K. Nakajima, S. Hirasawa, N. Onoda and H. Nozue: to be published in Jpn. J. Appl. Phys. 35 (1996).
29. H. Yamashita, K. Nakajima and H. Nozue: J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3591.
30. A. Moniwa and S. Okazaki: Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) 3093.
31. Y. Sohda, Y. Someda, H. Satoh, Y. Nakayama, N. Saitou and H. Itoh: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 6940.
32. J. A. Liddle, H. A. Huggins, S. D. Berger, J. M. Gibson, G. Weber, R. Kola and C. W. Jurgensen: J. Vac. Sci. & Thechnol. B9 (1991) 3000.
33. Y. Nakayama, H. Satoh, N. Saitou, S. Hirasawa, T. Yanagida and H. Todokoro: Jpn. J. Appl. Phys. 31 (1992) 4268.
34. S. Ohki, T. Matsuda and H. Yoshihara: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 5933.
35. T. Fujino, H. Maeda, K. Moriizumi, T. Kato and N. Tsubouchi: Jpn. J. Appl. Phys. 33 (1994) 6946.
36. T. Abe, S. Yamasaki, R. Yoshikawa and T. Takigawa: Jpn. J. Appl. Phys. 30 (1991) L528.
37. T. Abe, S. Yamasaki, R. Yoshikawa and T. Takigawa: J. Vac. Sci. & Thechnol. B9 (1991) 3059.
38. K. Kanaya, H. Kawakatsu and H. Yamazaki: Br. J. Appl. Phys. 16 (1965) 991.
39. S. Hirasawa, K. Nakajima, T. Tamura and N. Aizaki: J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2319.
40. G. H. Jansen: J. Vac. Sci. Technol. B6 (1988) 1977.
41. Y. Sohda, Y. Someda and N. Saito: J. Vac. Sci. Technol. B13 (1995) 2419.
42. S. D. Berger, D. J. Eaglesham, R. C. Farrow, R. R. Freeman, J. S. Kraus and J. A. Liddle: J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2294.
43. M. M. Mkrtchyan, J. A. Liddle, S. D. Berger and L. R. Harriott: J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3508.
44. L. R. Harriott, S. D. Berger, J. A. Liddle, G. P. Watson and M. M. Mkrtchyan: J. Vac. Sci. & Technol. B13 (1995) 1291.
45. G. C. A. Jones, P. M. Sargent, T. S. Norris and H. Ahmed: J. Vac. Sci. & Technol. B3 (1985) 124.
46. J. A. Liddle, S. D. Berger, C. J. Biddick, M. I. Blakey, K. J. Bolan, S. W. Bowler, K. Brady, R. M. Camarda, W. F. Connelly, A. Crorken, J. Custy, C. Farrow, J. A. Felker, L. A. Fetter, B. Freeman, L. R. Harriott, L. Horkins, H. A. Huggins, C. S. Knurek, J. S. Kraus, D. A. Mixon, M. M. Mkrtchyan, A. E. Novembre, M. L. Peabody, W. M. Simpson, R. G. Tarascon, H. W. Wada, W. K. Waskiewicz, G. P. Watson, J. K. Williams and D. L. Windt: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6663.
47. T. H. P. Chang: J. Vac. Sci. & Technol. 6 (1975) 1291.
48. S. Hasegawa, T. Hidaka and Y. Iida: J. Vac. Sci. & Technol. B5 (1987) 142.
49. M. Parikh: J. Appl. Phys. 50 (1979) 4371.
50. M. Parikh: J. Appl. Phys. 50 (1979) 4378.
51. M. Parikh: J. Appl. Phys. 50 (1979) 4383.
52. H. Itoh and C. G. Willson: Polym. Eng. Sci. 23 (1983) 102.
53. K. Shibahara, H. Mori, S. Ohnishi, R. Oikawa, K. Nakajima, K. Kojima, H. Yamashita, K. Itoh, S. Kamiyama, H. Watanabe, T. Hamada and K. Koyama: Tech. Dig. Int. Electron Device Meet. (IEEE, New York, 1994) p. 639.
54. P. Y. Lesaicherre, S. Yamamichi, H. Yamaguchi, K. Takemura, H. Watanabe, K. Tokashiki, K. Satoh, T. Sakuma, M. Yoshida, S. Ohnishi, K. Nakajima, K. Shibahara, Y. Miyasaki and H. Ono: Tech. Dig. Int. Electron Device Meet. (IEEE, New York, 1994) p. 831.
55. Y. Someda, H. Satoh, Y. Sohda, Y. Nakayama and N. Saitou: J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3399.
56. A. Yamada, K. Sakamoto, S. Yamazaki, K. Kobayashi, S. Sago, M. Oono, H. Watanabe and H. Yasuda: J. Vac. Sci. Technol. B12 (1994) 3404.
57. H. Sunaoshi, K. Hattori, J. Takamatsu, A. Ando, H. Wada, S. Magoshi, T. Yamaguchi, S. Sato, S. Nishimura, H. Housai, S. Hashimoto, R. Yoshikawa and T. Takigawa: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6679.
58. H. Ohta, T. Matsuzaka, N. Saitou, K. Kawasaki, T. Kohno and M. Hoga: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 6044.
59. K. Nagata, H. Ohta, T. Moromura, M. Okurnura and N. Saitou: Jpn. J. Appl. Phys. 34 (1995) 6639.
60. W. D. Meisburger, A. D. Brodie and A. A. Desai: J. Vac. Sci. Technol. B10 (1992) 2804.
61. D. Awamura, T. Ode and M. Yonezawa: Proc. SPIE 765 (1987) 53.
62. P. J. Apostolakis: Proc. SPIE 1464 (1991) 406.
63. K. Phan, J. Nistler and B. Singh: Proc. SPIE 1464 (1991) 424.
64. D. Levy and K. Harris: Proc. SPIE 1464 (1991) 413.
65. K. M. Monahan and S. Khalessi: Proc. SPIE 1673 (1992) 36.
66. K. M. Monahan, J. P. H. Benschop and T. A. Harris: Proc. SPIE 1464 (1991) 2.
67. M. G. Rosenfield: J. Vac. Sci. Technol. B6 (1988) 1944.
68. E. D. Fabrizio, L. Grella, L. Luciani, M. Gentili, M. Baciocchi, M. Figliomeni, Q. Leonard, F. Cerrina, M. Molino and D. Powderly. J. Vac. Sci. Technol. B11 (1993) 2456.
69. M. Miyoshi, M. Kanoh, H. Yamaji and K. Okamura: J. Vac. Sci. Technol. B4 (1986) 493.