Accurate determination of pulsed current waveform in plasma immersion ion implantation processes

Journal of Applied Physics

Volumn 86, Issue 7, 1999, Pages 3567-3570

  Tian, Xiubo ^a   Tang, Baoyin ^a   Chu, Paul K ^a  

^a CITY UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000383221     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.371259     Document Type: Article

References (17)

1. J. R. Conrad, J. I. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. 62, 4591 (1987).
2. P. K. Chu, B. Y. Tang, Y. C. Cheng, and P. K. Ko, Rev. Sci. Instrum. 68, 1886 (1997).
3. P. K. Chu, S. Qin, C. Chan, N. W. Cheung, and L. A. Larson, Mater. Sci. Eng. R17, 207 (1996).
4. B. Y. Tang, P. K. Chu, S. Y. Wang, K. W. Chow, and X. F. Wang, Surf. Coat. Technol. 103-104, 248 (1998).
5. S. Y. Wang, P. K. Chu, B. Y. Tang, X. B. Tian, X. F. Wang, and Q. Z. Lin, Thin Solid Films 311, 190 (1997).
6. S. Y. Wang, P. K. Chu, B. Y. Tang, J. C. Yan, and X. C. Zeng, Surf. Coat. Technol. 98, 897 (1998).
7. W. En and N. W. Cheung, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 1184 (1996).
8. M. A. Lieberman, J. Appl. Phys. 66, 2926 (1989).
9. R. A. Steward and M. A. Lieberman, J. Appl. Phys. 70, 3481 (1991).
10. W. En and N. W. Cheung, IEEE Trans. Plasma Sci. 44, 379 (1997).
11. B. P. Linder and N. W. Cheung, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 1383 (1996).
12. W. En, M. A. Lieberman, and N. W. Cheung, IEEE Trans. Plasma Sci. 23, 415 (1995).
13. J. T. Scheuer, M. Shamim, and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 67, 1241 (1990).
14. B. Szapirio and J. J. Rocca, J. Appl. Phys. 65, 3713 (1989).
15. A. G. Liu, X. F. Wang, B. Y. Tang, and P. K. Chu, Rev. Sci. Instrum. 69, 1495 (1998).
16. M. M. Shamim, J. T. Scheuer, R. P. Fetherston, and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. 70, 4756 (1991).
17. A. Chen, J. Firmiss, and J. R. Conrad, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 918 (1994).