Growth of high quality Al0.22Ga0.78As layers on Si substrates by metalorganic chemical vapor deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 7, 1996, Pages 4112-4115

  Baskar, K ^a   Soga, T ^a   Jimbo, T ^a   Umeno, M ^a  

^a NAGOYA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000364240     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363282     Document Type: Article

References (17)

1. M. Yamaguchi, M. Sugo, and Y. Itoh, Appl. Phys. Lett. 54, 2568 (1989).
2. T. Soga, S. Nozaki, N. Noto, H. Nishikawa, T. Jimbo, and M. Umeno, Jpn. J. Appl. Phys. 28, 2441 (1989).
3. N. Chand, F. Ren, A. T. Macrander, J. P. van der Ziel, A. M. Sergent, R. Hull, S. N. G. Chu, Y. K. Chen, and D. V. Lang, J. Appl. Phys. 67, 2343 (1990).
4. R. Venkatasubramanian, M. L. Timons, J. B. Posthill, B. M. Keyes, and R. K. Ahrenkiel, J. Cryst. Growth 107, 489 (1991).
5. T. Soga, H. Nishikawa, T. Jimbo, and U. Umeno, J. Cryst. Growth 107, 479 (1991).
6. L. Pavesi and M. Guzzi, J. Appl. Phys. 75, 4779 (1994).
7. T. Soga, T. Kato, M. Yang, T. Jimbo, and Umeno, J. Appl. Phys. 78, 4196 (1995).
8. T. Soga, Y. Kohama, K. Uchida, M. Tajima, T. Jimbo, and M. Umeno, J. Cryst. Growth 93, 499 (1988).
9. M. S. Hao, J. W. Liang, L. X. Zheng, L. S. Deng, Z. B. Xiao, and X. W. Hu, Jpn. J. Appl. Phys. Lett. 34, 900 (1995).
10. T. Egawa, H. Tada, Y. Kobayashi, T. Soga, T. Jimbo, and M. Umeno, Appl. Phys. Lett. 57, 1179 (1990).
11. L. Lee, L. Wei, S. Tanigawa, and M. Kawabe, J. Appl. Phys. 68, 5571 (1990).
12. X. Tang, E. P. Visser, P. M. A. van Lin, and L. J. Giling, J. Appl. Phys. 69, 3278 (1991).
13. S. Yu, U. M. Gosele, and T. Y. Tan, J. Appl. Phys. 66, 2952 (1989).
14. T. Soga, T. Kato, T. Jimbo, and M. Umeno, J. Appl. Phys. 79, 9375 (1996).
15. P. M. Mooney, T. N. Theis, and S. L. Wright, Appl. Phys. Lett. 53, 2546 (1988).
16. W. Kurner, R. Dieter, K. Zieger, F. Goroncy, A. Dornen, and F. Scholtz, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 325, 437 (1993).
17. Z. C. Huang, B. Yang, H. K. Sen, and J. C. Chen, Appl. Phys. Lett. 66, 2745 (1995).