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Volumn 56, Issue 20, 1997, Pages 13172-13176

As-vacancy interaction and ring mechanism of diffusion in Si

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EID: 0000353655     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.56.13172     Document Type: Article
Times cited : (56)

References (12)
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.