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Volumn 77, Issue 14, 2000, Pages 2207-2209

Boron penetration in p+ polycrystalline-Si/Al2O3/Si metal-oxide-semiconductor system

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EID: 0000326893     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1315346     Document Type: Article
Times cited : (53)

References (18)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.