Evaluation of materials for 193-nm lithography

Journal of Photopolymer Science and Technology

Volumn 9, Issue 3, 1996, Pages 435-446

  Schaedeli, Ulrich ^a,b,c   Tinguely, Eric ^a,b,c   Cherubini, Katiuscia ^a,b,c   Maire, Beatrice ^a,b,c   Blakeney, Andrew J ^a,b,c   Falcigno, Pasquale ^a,b,c   R kunz, Roderick ^a,b,c  

^a CIBA GEIGY LTD   (Switzerland)

^b Olin Microelectronic Materials   (United States)

^c MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000323993     PISSN: 09149244     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.2494/photopolymer.9.435     Document Type: Article

References (10)

1. M. Rothschild, R. B. Goodman, M. A. Hartney, M. W. Hörn, R. R. Kunz, J. H. C. Sedlacek, and D. C. Shaver, J. Vac. Sei. Technol., B 10,2989 (1992)
2. H. Komori, H. Ochi, O. Wakabayashi, and H. Mizoguchi, Proc. SPIE, 2440,106 (1995)
3. R. R. Kunz, R. D. Allen, M. A. Hartney, W. D. Hinsberg, M. W. Hörn, C. L. Keast, M. Rothschild, D. C. Shaver, and G. M. Wallraff, Polym. Adv. Technol, 5, 12 (1994)
4. U. Schaedeli, E. Tinguely, A. Blakeney, P. Falcigno, and R. R. Kunz, Proc. SPIE, 2724 (1996), in print
5. R. R. Kunz, M. W. Hörn, P. A. Bianconi, D. A. Smith, and J. R. Eshelman, J. Vac. Sei. Technol., B 10, 2554 (1992)
6. R. R. Kunz, M. W. Hörn, R. B. Goodman, P. A. Bianconi, D. A. Smith, and C. A. Freed, J. Vac. Sei. Technol., B 8, 1820 (1990)
7. R. R. Kunz, P. A. Biasconi, M. W. Hörn, R. R. Paladugu. D. C. Shaver, D. A. Smith, and C. A. Freed, Proc. SPIE, 1466,218 (1991)
8. A. H. Gabor, C. K. Ober, ACS Symp. Ser., 614, 281 (1995)
9. H. Ito, G. Breyta, D. Hofer, R. Sooriyakumaran, K. Petrillo, and D. Seeger, J. Photopolym. Sei. Technol, l,433 (1994)
10. H. Ito, G. Breyta, R. Sooriyakumaran, and D. Hofer, J. Photopolym. Sei. Technol., 8, 505, (1995)