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Volumn 78, Issue 15, 1997, Pages 2980-2982

Homogeneous Amorphization in High-Energy Ion Implanted Si

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EID: 0000307147     PISSN: 00319007     EISSN: 10797114     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevLett.78.2980     Document Type: Article
Times cited : (44)

References (13)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.