Auger suppression in CdHgTe heterostructure diodes grown by molecular beam epitaxy using silver as acceptor dopant

Applied Physics Letters

Volumn 68, Issue 9, 1996, Pages 1235-1237

  Skauli, T ^a   Steen, H ^a   Colin, T ^a   Helgesen, P ^a   Lovold S ^a   Elliott, C T ^b   Gordon, N T ^b   Phillips, T J ^b   White, A M ^b  

^a NORWEGIAN DEFENCE RESEARCH ESTABLISHMENT FFI   (Norway)

^b DEFENCE SCIENCE AND TECHNOLOGY LABORATORY   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000207226     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.115937     Document Type: Article

References (19)

1. T. Ashley and C. T. Elliott, Electron. Lett. INS 21, 451 (1985).
2. C. T. Elliott, N. T. Gordon, R. S. Hall, T. J. Phillips, C. L. Jones, B. E. Matthews, C. D. Maxey, and N. E. Metcalfe, Proc. SPIE 2269, 648 (1994).
3. O. K. Wu, D. M. Jamba, G. S. Kamath, G. R. Chapman, S. M. Johnson, J. M. Peterson, K. Kosai, and C. A. Cockrum, J. Electron. Mater. INS 24, 423 (1995).
4. S. H. Shin, J. M. Arias, M. Zandian, J. G. Pasko, L. O. Bubulac, and R. E. DeWames, J. Electron. Mater. INS 24, 609 (1995).
5. D. J. Peterman, M. L. Wroge, B. J. Morris, D. J. Leopold, and J. G. Broerman, J. Appl. Phys. AIP 63, 1951 (1988).
6. M. L. Wroge, D. J. Peterman, B. J. Morris, D. J. Leopold, J. G. Broerman, and B. J. Feldman, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 6, 2826 (1988).
7. D. J. Peterman, M. L. Wroge, B. J. Morris, D. J. Leopold, and J. G. Broerman, J. Appl. Phys. AIP 65, 1550 (1989).
8. M. L. Wroge, D. J. Peterman, B. J. Feldman, B. J. Morris, D. J. Leopold, and J. G. Broerman, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 7, 435 (1989).
9. T. A. Temofonte, A. J. Noreika, M. J. Bevan, P. R. Emtage, C. F. Seiler, and P. Mitra, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 7, 440 (1989).
10. P. S. Wijewarnasuriya, I. K. Sou, Y. J. Kim, K. K. Mahavadi, S. Sivananthan, M. Boukerche, and J. P. Faurie, Appl. Phys. Lett. AIP 51, 2025 (1987).
11. P. Capper, Properties of Narrow-Gap Cadmium-Based Compounds, edited by P. Capper (INSPEC, London, 1994).
12. T. Skauli, T. Colin, and S. Løvold, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 12, 274 (1994).
13. T. Colin, D. Minsås, S. Gjøen, R. Sizmann, and S. Løvold, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. INS 340, 575 (1994).
14. F. Khaleque, Electron. Lett. INS 31, 500 (1995).
15. S. P. Tobin, G. N. Pultz, E. E. Krueger, M. Kestigian, K. K. Wong, and P. W. Norton, J. Electron. Mater. INS 22, 907 (1993).
16. C. D. Maxey, C. L. Jones, and N. E. Metcalfe, in Proceedings of the 1995 U.S. Workshop on CMT and Related Materials [J. Electron. Mater. (to be published)].
17. A. M. White, Infrared Phys. INS 26, 317 (1986).
18. C. T. Elliott, N. T. Gordon, R. S. Hall, and G. Crimes, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 8, 1251 (1990).
19. A. P. Davis, C. T. Elliott, and A. M. White, Infrared Phys. INS 31, 575 (1991).