High etch rates of SiC in magnetron enhanced SF6 plasmas

Applied Physics Letters

Volumn 68, Issue 26, 1996, Pages 3755-3757

  McLane, G F ^a   Flemish, J R ^a  

^a U S ARMY RESEARCH LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000142386     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.115996     Document Type: Article

References (22)

1. S. Nishino, A. Ibaraki, H. Matsunami, and T. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. INS 19, L353 (1980).
2. J. W. Palmour, C. H. Carter Jr., C. E. Weitzel, and K. J. Nordquist, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. INS 339, 133 (1994).
3. D. M. Brown, E. T. Downey, M. Ghezzo, J. K. Kretchmer, R. J. Saia, Y. S. Lui, J. A. Edmond, G. Gati, H. M. Pimbley, and M. E. Schneider, IEEE Trans. Electron Devices INS ED-40, 325 (1993).
4. R. Padiyath, R. L. Wright, M. I. Chaudry, and S. V. Babu, Appl. Phys. Lett. AIP 58, 1053 (1991).
5. A. J. Steckl and P. H. Yih, Appl. Phys. Lett. AIP 60, 1966 (1992).
6. P. H. Yih and A. J. Steckl, J. Electrochem. Soc. INS 140, 1813 (1993).
7. J. Wu, J. D. Parsons, and D. R. Evans, J. Electrochem. Soc. INS 142, 669 (1995).
8. N. J. Dartnell, M. C. Flowers, R. Greef, and J. Zhu, Vacuum INS 46, 349 (1995).
9. P. H. Yih and A. J. Steckl, J. Electrochem. Soc. INS 142, 312 (1995).
10. J. Sugiura, W.-J. Lu, K. C. Cadien, and A. J. Steckl, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 4, 349 (1986).
11. P. H. Yih and A. J. Steckl, J. Electrochem. Soc. INS 142, 2853 (1995).
12. W.-S. Pan and A. J. Steckl, J. Electrochem. Soc. INS 137, 212 (1990).
13. J. R. Flemish, K. Xie, and J. H. Zhao, Appl. Phys. Lett. AIP 64, 2315 (1994).
14. K. Xie, J. R. Flemish, J. H. Zhao, W. R. Buchwald, and L. Casas, Appl. Phys. Lett. AIP 67, 368 (1995).
15. T. C. Lo and H. C. Huang, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 11, 290 (1993).
16. A. A. Bright, S. Kausik, and G. S. Oehrlein, J. Appl. Phys. AIP 62, 2518 (1987).
17. G. F. McLane, M. Meyyappan, H. S. Lee, M. W. Cole, D. W. Eckart, R. T. Lareau, M. Namaroff, and J. Sasserath, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 11, 333 (1993).
18. G. F. McLane, L. Casas, S. J. Pearton, and C. R. Abernathy, Appl. Phys. Lett. AIP 66, 3328 (1995).
19. R. J. Contolini and L. D'Asaro, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 4, 706 (1986).
20. Handbook of Chemistry and Physics, 67th ed., edited by R. C. Weast (CRC, Boca Raton, FL, 1986).
21. A. A. Bright and S. Kausik, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 7, 542 (1989).
22. R. J. Shul, A. J. Howard, S. J. Pearton, C. R. Abernathy, C. B. Vartuli, R. A. Barnes, and M. J. Bozack, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 13, 2016 (1995).