STM and ECSTM study of the formation and structure of self-assembling osmium complexes on Pt(111)

Journal of Physical Chemistry

Volumn 100, Issue 3, 1996, Pages 1036-1042

  Hudson, James E ^a   Abruña, Héctor D ^a  

^a Department of Molecular Biology and Genetics   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000133173     PISSN: 00223654     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp951708g     Document Type: Article

References (26)

1. Swalen, J. D.; Allara, D. L.; Andrade, J. D.; Chandross, E. A.; Garoff, S.; Isreaellachvili, J.; McCarthy, T. J.; Murray, R.; Pease, R. F.; Rabolt, J. E; Wynne, K. J.; Yu, H. Langmuir 1987, 3, 932.
2. Molecular Design of Electrode Surfaces; Murray, R., Ed.; Techniques in Chemistry 22; Wiley-Interscience: New York, 1992.
3. Abruna, H. D. Coord. Chem. Ref. 1988, 86, 135.
4. Bard, A. J. Integrated Chemical Systems; Wiley-Interscience: New York, 1994.
5. Bard, A. J.; Abruna, H. D.; Chidsey, C. E.; Faulkner, L. R.; Feldberg, S. W.; Itaya, K.; Majda, M.; Melroy, M.; Murray, R. W.; Porter, M. D.; Soriaga, M. P.; White, H.S. J. Phys. Chem. 1993, 97, 7147.
6. Abruña, H. D.; Hossick Schott, J.; Hudson, J. E.; Snyder, S. R.; White, H. S. Comments Inorg. Chem. 1994, 15 (3-4), 171.
7. Louder, D. R.; Parkinson, B. A. Anal. Chem. 1994, 66, 84R.
8. Widrig, C. A.; Alves, C. A.; Porter, M. D. J. Am. Chem. Soc. 1991, 113, 278.
9. Hallmark, V. M.; Chiang, S.; Meinhardt, K.-P.; Hafner, K. Phys. Rev. Lett. 1993, 70 (24), 3740.
10. Richter, S.; Manassen, Y. J. Phys. Chem. 1994, 98, 2941.
11. Lindsay, S. M.; Sankey, O. F.; Li, Y.; Herbst, C. J. Phys. Chem. 1990, 94, 4655.
12. Schmickler, W. Surf. Sci. 1993, 295, 43.
13. Kim, Y.-T.; McCarley, R. L.; Bard, A. J. J. Phys. Chem. 1992, 18, 7416.
14. Hossick Schott, J.; Arana, C. R.; Abruña, H. D.; Hurell Petach, H.; Elliot, C. M. White, H. S. J. Phys. Chem. 1992, 96, 5222.
15. Lippel, P. H.; Wilson, R. J.; Miller, M. D.; Wöll, Ch.; Chiang, S. Phys. Rev. Lett. 1989, 62 (2), 171.
16. Mizuntani, W.; Shigeno, M.; Sakaibara; Kajimura, K.; Ono, M.; Tanishima, S.; Ohno, K.; Toshima, N. J. Vac. Sci. Technol. A 1990, 8 (1), 675.
17. Snyder, S. R.; White, H. S. J. Phys. Chem. 1995, 99, 5626.
18. Acevedo, D.; Abruña, H. D. J. Phys. Chem. 1991, 95, 9590.
19. Acevedo, D.; Bretz, R. L.; Tirado, J. D.; Abruña, H. D. Langmuir 1994, 10, 1300.
20. Tirado, J. D.; Acevedo, D.; Bretz, R. L.; Abruña, H. D. Langmuir 1994, 10, 1971.
21. Zhang, B.; Wang, E. Electrochim. Acta 1994, 39 (1), 103.
22. Clavilier, J.; Faure, R.; Guinet, G.; Durland, R. J. Electroanal. Chem. 1980, 107, 205.
23. Zeppenfeld, P.; Lutz, C. P.; Eigler, D. M. Ultramicroscopy 1992, 42-44, 128.
24. Tirado, J. D.; Abruña, H. D. Submitted for publication in J. Phys. Chem.
25. Stranick, S. J.; Kamna, M. M.; Weiss, P. S. Science 1994, 226, 99.
26. Schönenberger, C.; Sondag-Huethorst, J. A. M.; Jorritsma, J.; Fokkink, L. G. J. Langmuir 1994, 10, 612.