Nitrogen plasma instabilities and the growth of silicon nitride by electron cyclotron resonance microwave plasma chemical vapor deposition

Journal of Applied Physics

Volumn 81, Issue 6, 1997, Pages 2839-2846

  Pool, F S ^a  

^a CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000123512     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.363943     Document Type: Article

References (26)

1. K. Suzuki, S. Okudairo, N. Sadudo, and I. Kanomata, Jpn. J. Appl. Phys. 16, 1979 (1977).
2. S. Matsuo and M. Kiuchi, Jpn. J. Appl. Phys. 22, L210 (1983).
3. M. Dahimene and J. Asmussen, J. Vac. Sci. Technol. B 4, 126 (1986).
4. M. Matsuoka and K. Ono, Appl. Phys. Lett. 50, 1864 (1987).
5. T. Hirao, K. Setsune, M. Kitagawa, T. Kamada, K. Wasa, K. Tsukamoto, and T. Izumi, Jpn. J. Appl. Phys. 27, 30 (1988).
6. T. Hirao, T. Kamada, M. Kitagawa, K. Setsune, K. Wasa, A. Matsuda, and K. Tanaka, Jpn. J. Appl. Phys. 27, 528 (1988).
7. J. R. Flemish and R. L. Pfeffer, J. Appl. Phys. 74, 3277 (1993).
8. Y.-C. Jeon, H.-Y. Lee, and S.-K. Joo, J. Electron. Mater. 21, 1119 (1992).
9. Y. Manabe and T. Mitsuya, J. Appl. Phys. 66, 2475 (1989).
10. J. M. Shannon, S. C. Deane, B. McGarvey, and J. N. Sandoe, Appl. Phys. Lett. 65, 2978 (1994).
11. K. Saito, N. Chiba, T. Fukuda, K. Suzuki, and M. Ohue, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 1102 (1992).
12. S. Y. Shapoval, V. T. Petrashov, O. A. Popov, M. D. Yoder, P. D. Maciel, and C. K. C. Lok, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 3071 (1991).
13. O. A. Popov, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 894 (1989).
14. O. Popov, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 2909 (1990).
15. S. M. Gorbatkin, L. A. Berry, and J. B. Roberta, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 2893 (1990).
16. P. K. Shufflebotham and D. J. Thomson, J. Vac. Sci. Technol. A 8, 3713 (1990).
17. E. S. Aydil, J. A. Gregus, and R. A. Gottscho, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2883 (1993).
18. F. F. Chen, Introduction to Plasma Physics (Plenum, New York), Chap. 4.
19. W. A. Lanford and M. J. Rand, J. Appl. Phys. 49, 2473 (1978).
20. J. Forster and W. Holber, J. Vac. Sci. Technol. A 7, 899 (1989).
21. S. M. Sze, J. Appl. Phys. 38, 2951 (1967).
22. R. L. Rhoades and S. M. Gorbatkin, Appl. Phys. Lett. 65, 2004 (1994).
23. M. J. Goeckner, J. A. Meyer, G.-H. Kin, J.-S. Jeng, A. Mathews, and J. W. Taylor, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 2543 (1993).
24. J. D. Targove and H. A. Macleod, Appl. Opt. 27, 3779 (1988).
25. P. B. Mirkarimi, K. F. McCarty, D. L. Medlin, W. G. Wolfer, T. A. Friedmann, E. J. Klaus, G. F. Cardinale, and D. G. Howitt, J. Mater. Res. 9, 2925 (1994).
26. S. Garcia, J. M. Martin, M. Fernandez, I. Martil, and G. Gonzalez-Diaz, J. Vac. Sci. Technol. A 13, 826 (1995).