Oxygen and the thermal stability of thin CoSi2 layers

Applied Physics Letters

Volumn 72, Issue 20, 1998, Pages 2538-2540

  Tung, R T ^a  

^a LUCENT TECHNOLOGIES   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0000115076     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.120625     Document Type: Article

References (12)

1. M. Maex, Mater. Sci. Eng., R. Rep. 11, 53 (1993).
2. S. Nygren and S. Johansson, J. Appl. Phys. 68, 1050 (1990).
3. H. Jiang, C. M. Osburn, Z.-G. Xiao, G. McGuire, and G. A. Rozgonyi, J. Electrochem. Soc. 139, 211 (1992).
4. A. C. Berti and V. Bolkhovsky, VLSI Multilevel Interconnection Conference 1992.
5. R. T. Tung and F. Schrey, Appl. Phys. Lett. 67, 2164 (1995).
6. C. M. Osburn, Q. F. Wang, M. Kellam, C. Canovai, P. L. Smith, G. E. McGuire, Z. G. Ziao, and G. A. Rozgonyi, Appl. Surf. Sci. 53, 291 (1991).
7. S. Mantl, M. Dolle, St. Mesters, P. F. P. Fichtner, and H. L. Bay, Appl. Phys. Lett. 67, 3459 (1995).
8. R. T. Tung, Appl. Phys. Lett. 61, 3461 (1996).
9. M. Bartur and M.-A. Nicolet, Appl. Phys. A: Solids Surf. 29, 69 (1982).
10. G. J. Huang and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 76, 865 (1994).
11. R. T. Tung and J. L. Batstone, Appl. Phys. Lett. 52, 648 (1988).
12. S. Vaidya, S. P. Mararka, and T. T. Sheng, J. Appl. Phys. 58, 971 (1985).