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Volumn 283-287, Issue PART II, 2000, Pages 832-837

Fatigue behavior and development of microcracks in F82H after helium implantation at 200°C

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EID: 0000042966     PISSN: 00223115     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0022-3115(00)00313-5     Document Type: Article
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References (13)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.