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Volumn 2, Issue 6, 1995, Pages 2164-2175

Industrial applications of low-temperature plasma physics

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EID: 0000006997     PISSN: 1070664X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.871477     Document Type: Review
Times cited : (105)

References (46)
  • 17
    • 85034915113 scopus 로고
    • U.S. Patent No. 4, 948, 458 (14 August
    • (1990)
    • Ogle, J.S.1
  • 29
    • 85034917133 scopus 로고
    • Xerox Corp. (private communication)
    • (1994)
    • King, T.J.1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.